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          光刻機(jī)會(huì)卡住中國(guó)制造的脖子嗎?2020-2025年中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展前瞻

          • 2020年9月25日 ZhouXun來源:互聯(lián)網(wǎng) 786 47
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          光刻機(jī)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機(jī)是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺

          光刻機(jī)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng)等,是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù),把掩膜版上的精細(xì)圖形通過光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機(jī)是通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

          簡(jiǎn)單說的話,光刻機(jī)就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長(zhǎng)的激光與不同的光刻機(jī)相互作用時(shí),會(huì)產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。例如:蒸發(fā)磁控濺射鍍膜是加熱蒸發(fā)鍍膜、鋁膜等。更換不同的光刻機(jī)(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。

          光刻機(jī)會(huì)卡住中國(guó)制造的脖子嗎?

          近日,中科院又傳來了一個(gè)好消息,中科院院長(zhǎng)白春禮宣布:未來中科院將集中全院的科研力量攻克被美國(guó)卡脖子的芯片制造技術(shù),而光刻機(jī)將是重中之重。這意味著中科院將全面介入光刻機(jī)和芯片制造領(lǐng)域,為國(guó)產(chǎn)芯片制造領(lǐng)域趕超世界先進(jìn)水平掃清道路,不得不說這是中科院事關(guān)中國(guó)科技崛起的一步大棋。

          中科院是全球最大的科研機(jī)構(gòu),研究領(lǐng)域覆蓋了科技領(lǐng)域的方方面面,除了美國(guó)科學(xué)院能與其相提并論之外,全球鮮有匹敵。在中科院正式宣布進(jìn)入光科技領(lǐng)域之后,臺(tái)積電、ASML、三星等芯片制造巨頭都感受到了巨大的威脅。

          想要了解更多行業(yè)專業(yè)分析請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院出版的《2020-2025年中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》

          2020年中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀

          主要的光刻機(jī)生產(chǎn)廠家包括:ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。

          高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國(guó)),日本Nikon(intel曾經(jīng)購(gòu)買過Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī),形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

          生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī),分辨率通常在數(shù)微米以上。2018年11月29日,國(guó)家重大科研裝備研制項(xiàng)目"超分辨光刻裝備研制"通過驗(yàn)收。該光刻機(jī)由中國(guó)科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制,光刻分辨力達(dá)到22納米,結(jié)合雙重曝光技術(shù)后,未來還可用于制造10納米級(jí)別的芯片。

          隨著光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇,大型企業(yè)間并購(gòu)整合與資本運(yùn)作日趨頻繁,國(guó)內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來愈重視對(duì)行業(yè)市場(chǎng)的分析研究,特別是對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)環(huán)境和客戶需求趨勢(shì)變化的深入研究,以期提前占領(lǐng)市場(chǎng),取得先發(fā)優(yōu)勢(shì)。中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù),對(duì)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞,最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本,把握投資機(jī)遇,提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

          欲了解關(guān)于光刻機(jī)行業(yè)具體詳情可以點(diǎn)擊查看中研普華研究報(bào)告《2020-2025年中國(guó)光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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