電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。電子束曝光系統(tǒng)即用于實現(xiàn)電子束曝光的系統(tǒng)。電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。
電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)現(xiàn)狀 電子束曝光系統(tǒng)市場分析
電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。電子束曝光系統(tǒng)即用于實現(xiàn)電子束曝光的系統(tǒng)。電子束曝光指使用電子束在表面上制造圖樣的工藝，是光刻技術的延伸應用。
光刻技術的精度受到光子在波長尺度上的散射影響。使用的光波長越短，光刻能夠達到的精度越高。根據(jù)德布羅意的物質(zhì)波理論，電子是一種波長極短的波。這樣，電子束曝光的精度可以達到納米量級，從而為制作納米線提供了很有用的工具。電子束曝光需要的時間長是它的一個主要缺點。為了解決這個問題，納米壓印術應運而生。
電子束曝光分辨率高、掩膜版制作容易、工藝容限大，而且生產(chǎn)效率高，但由于電子束在光刻膠膜內(nèi)的散射，使得圖案的曝光劑量會受到臨近圖案曝光劑量的影響(即臨近效應)，造成的結果是，顯影后，線寬有所變化或圖形畸變。雖然如此，限角度投影式電子束光刻仍是最具前景的非光學光刻。
隨著器件的特征尺寸不斷縮小，在掩模版制造中普遍采用電子束曝光和激光光刻設備，在這兩類設備中，電子束設備在性能和數(shù)量上均占優(yōu)勢。最先進的激光制版系統(tǒng)，其束斑直徑在0.2μm左右，可以用來制作0.18μm，0.15μm生產(chǎn)線的掩模版，但對特征尺寸更小的器件的掩模，只能用電子束曝光系統(tǒng)來制作，特別是用于光學光刻中的銘版制造。
據(jù)不完全統(tǒng)計，截至2021年底，全球電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)能約為3564臺，產(chǎn)量約為3411臺，產(chǎn)能利用率約為95.71%。
據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2022年全球與中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場深度研究分析報告》分析
近年來，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量和產(chǎn)值都呈現(xiàn)出較快的增長態(tài)勢。據(jù)統(tǒng)計，2021年，中國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為864臺，同比增長12.06%;產(chǎn)值約為6.82億美元，同比增長18.40%。
圖表：2018-2021年中國電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況
數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院
據(jù)統(tǒng)計，2021年美國電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為268臺，較2020年增長了5.10%;產(chǎn)值約為2.29億美元，較2020年增長了6.02%。
圖表：2018-2021年美國電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量和產(chǎn)值情況
數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院
據(jù)統(tǒng)計，2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為1364臺，較2020年增長了6.98%;產(chǎn)值約為14.14億美元，較2020年增長了12.67%。
圖表：2018-2021年歐洲電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況
數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院
據(jù)統(tǒng)計，2021年日本電子束曝光系統(tǒng)的產(chǎn)量約為791臺，較2020年增長了2.06%;產(chǎn)值約為6.87億美元，較2020年增長了3.0%。
圖表：2018-2021年日本電子束曝光系統(tǒng)產(chǎn)量及產(chǎn)值情況
數(shù)據(jù)來源：中研普華產(chǎn)業(yè)研究院
想要了解更多電子束曝光系統(tǒng)行業(yè)的發(fā)展前景，請查閱《2022年全球與中國電子束曝光系統(tǒng)(EBL)市場深度研究分析報告》。
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2022年全球與中國電子束曝光系統(tǒng)（EBL）市場深度研究分析報告
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