2022年掩膜版行業(yè)發(fā)展前景及市場規(guī)模分析

• 2022年2月9日 ZouJunRong來源：互聯(lián)網(wǎng) 670 39
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我國光掩膜版行業(yè)起步較晚，高端產(chǎn)品產(chǎn)能不足，因此目前我國光掩膜版市場仍由外資企業(yè)占據(jù)主導，未來我國光掩膜版行業(yè)發(fā)展空間廣闊。

掩膜版又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等，是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具，是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜版用于下游電子元器件制造業(yè)批量生產(chǎn)，是下游行業(yè)生產(chǎn)流程銜接的關(guān)鍵部分，是下游產(chǎn)品精度和質(zhì)量的決定因素之一。

2022年掩膜版行業(yè)發(fā)展前景及市場規(guī)模分析

掩膜版主要由基板和遮光板兩個部分組成，其中基板有樹脂基板和玻璃基板;遮光板有乳膠和硬質(zhì)遮光膜。按照實際作用分類，掩膜版可被分為鉻版、干版、液體凸版、菲林四種，其中鉻版精度最高、耐用性好，目前廣泛應用在IC、平板顯示、印刷線路板等領(lǐng)域，而剩余三種產(chǎn)品精度相對較低，應用在PCB、LCD等領(lǐng)域。

掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費品行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。從產(chǎn)業(yè)鏈來看，掩膜版產(chǎn)業(yè)位于電子信息產(chǎn)業(yè)的上游，其主導產(chǎn)品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導體芯片、觸控和電路板等行業(yè))生產(chǎn)制造過程中的核心模具，起到橋梁和紐帶的作用，電子元器件制造商的產(chǎn)品則廣泛應用于消費電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域。

隨著電子信息技術(shù)的日新月異，5G 技術(shù)和人工智能帶動下游終端電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代速度越來越快，以平板電視、筆記本電腦、數(shù)碼相機、智能手機等產(chǎn)品為主的消費類電子產(chǎn)品產(chǎn)銷量持續(xù)增長，為平板顯示、半導體芯片、觸控、電路板等電子元器件相關(guān)行業(yè)帶來巨大的市場空間，間接帶動了掩膜版行業(yè)的發(fā)展。

據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院公布《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預測報告》顯示

近年來，國家和政府相繼出臺政策支持掩膜版行業(yè)發(fā)展。2021年3月，《中華人民共和國國民經(jīng)濟和社會發(fā)展第十四個五年規(guī)劃和2035年遠景目標綱要》提出要加強原創(chuàng)性引領(lǐng)性科技攻關(guān)。瞄準人工智能、量子信息、集成電路、生命健康、腦科學、生物育種、空天科技、深地深海等前沿領(lǐng)域，實施一批具有前瞻性、戰(zhàn)略性的國家重大科技項目。

掩膜版在電子產(chǎn)業(yè)應用需求較廣，由于我國已經(jīng)成為全球主要的半導體生產(chǎn)國家，利好掩膜版行業(yè)發(fā)展。在國內(nèi)市場，掩膜版主要被應用在IC，該領(lǐng)域占比在50%以上，其次是LCD占比達到25%。

掩膜版分別應用在平板顯示和半導體芯片兩大領(lǐng)域。當前全球半導體顯示產(chǎn)業(yè)逐漸向大尺寸化方向發(fā)展，全球顯示面板需求面積持續(xù)增長，預計到2025年達到2.5億平方米。受益于半導體加工產(chǎn)業(yè)向中國轉(zhuǎn)移，我國平板顯示產(chǎn)能持續(xù)攀升，已經(jīng)成為全球重要的平板顯示生產(chǎn)國家，在2020年我國平板顯示所需掩膜版占據(jù)全球的55%左右。

益于人工智能、智能家居等產(chǎn)業(yè)發(fā)展帶動，全球以及我國掩膜版市場需求持續(xù)攀升，行業(yè)發(fā)展前景較好。且目前平板顯示產(chǎn)業(yè)逐漸向大尺寸方向發(fā)展，也利好掩膜版行業(yè)發(fā)展。但在生產(chǎn)方面，受制于技術(shù)、設(shè)備和原材料限制，我國掩膜版仍舊依賴進口。

全球掩膜版市場主要由日本凸版印刷(Toppan)、大日本印刷(DNP)、美國福尼克斯(Photronics)、日本豪雅(Hoya)等企業(yè)占據(jù)，其中前三家企業(yè)占據(jù)全球掩膜版市場約80%的份額。

隨著消費者對顯示產(chǎn)品的要求逐步提高，手機、平板電腦等移動終端向著更高清、色彩度更飽和、更輕薄化發(fā)展。預計未來顯示屏的顯示精度將從450PPI(Pixel Per Inch，即每英寸像素)逐步提高到650PPI以上，對平板顯示掩膜版的半導體層、光刻分辨率、最小過孔、CD均勻性、套合精度、缺陷大小、潔凈度均提出了更高的技術(shù)要求。未來集成電路的制造工藝將進一步精細化，朝5nm-3nm工藝發(fā)展，這對與之配套的掩膜版以及半導體芯片封裝用掩膜版提出了更高要求，線縫精度要求越來越高。

光掩膜版在可穿戴設(shè)備、平板顯示、汽車電子、家電等領(lǐng)域應用廣泛，近年來，隨著下游市場需求不斷釋放，光掩膜版行業(yè)發(fā)展持續(xù)向好。我國光掩膜版行業(yè)起步較晚，高端產(chǎn)品產(chǎn)能不足，因此目前我國光掩膜版市場仍由外資企業(yè)占據(jù)主導，未來我國光掩膜版行業(yè)發(fā)展空間廣闊。

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