下一代iPhone技術(shù)嗎 蘋果被曝正在評估微透鏡 這些材料或成關(guān)鍵

• 李波 2023年9月5日 來源：中研普華集團、央視財經(jīng)、中研網(wǎng) 684 40
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據(jù)行業(yè)媒體IT之家援引韓媒報道，蘋果正在考慮使用微透鏡技術(shù)來維持或增加明亮度，并可能降低下一代iPhone 16的OLED顯示屏的功耗。

據(jù)行業(yè)媒體IT之家援引韓媒報道，蘋果正在考慮使用微透鏡技術(shù)來維持或增加明亮度，并可能降低下一代iPhone 16的OLED顯示屏的功耗。

資料顯示，微透鏡陣列是提高OLED外量子效率的一類重要方法。工作原理是在面板內(nèi)部使用由數(shù)十億個透鏡組成的統(tǒng)一圖案，以減少內(nèi)部反射。

這可以將從面板內(nèi)部向后反射的光路轉(zhuǎn)向屏幕，從而在保持相同功耗水平的同時提高感知亮度，或者在保持亮度水平的同時消耗更少的功耗。

工藝上看，微透鏡設(shè)計和制造過程的第一步是選擇制作微透鏡的材料，常用的材料有聚二甲基硅氧烷(PDMS)、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、光刻膠、二氧化硅(SiO2)等。

公司方面，據(jù)上市公司互動平臺表示，包括雙象股份：公司30萬噸PMMA/MS光學(xué)材料項目建設(shè)正在按計劃快速推進。晶瑞電材：公司表示擁有達到國際先進水平的光刻膠生產(chǎn)線

2023年8月3日，大族激光在互動平臺稱，公司自主研發(fā)的光刻機主要用于分立器件的部分加工環(huán)節(jié)，目前，接近式光刻機已投入市場，步進式光刻機已啟動用戶優(yōu)化。

光刻機又名：掩模對準曝光機，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細圖形通過光線的曝光印制到硅片上。

曝光機是生產(chǎn)大規(guī)模集成電路的核心設(shè)備，制造和維護需要高度的光學(xué)和電子工業(yè)基礎(chǔ)，世界上只有少數(shù)廠家掌握。因此曝光機價格昂貴，通常在3千萬至5億美元。

光刻機一般根據(jù)操作的簡便性分為三種，手動、半自動、全自動A 手動：指的是對準的調(diào)節(jié)方式，是通過手調(diào)旋鈕改變它的X軸，Y軸和thita角度來完成對準，對準精度可想而知不高了;

B 半自動：指的是對準可以通過電動軸根據(jù)CCD的進行定位調(diào)諧;C 自動： 指的是 從基板的上載下載，曝光時長和循環(huán)都是通過程序控制，自動光刻機主要是滿足工廠對于處理量的需要。

制造高精度的對準系統(tǒng)需要具有近乎完美的精密機械工藝，這也是國產(chǎn)光刻機望塵莫及的技術(shù)難點之一，許多美國德國品牌光刻機具有特殊專利的機械工藝設(shè)計。

例如Mycro N&Q光刻機采用的全氣動軸承設(shè)計專利技術(shù)，有效避免軸承機械摩擦所帶來的工藝誤差。對準系統(tǒng)另外一個技術(shù)難題就是對準顯微鏡。為了增強顯微鏡的視場，許多高端的光刻機，采用了LED照明。

光刻機產(chǎn)業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀及市場競爭格局分析

光刻機的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。

高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。

光刻機行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局，前三供應(yīng)商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據(jù)絕大多數(shù)市場份額。從營收來看，尼康占比84%，佳能占比9%，阿斯麥占比7%。

2022年光刻機市占率按出貨量來看 ，阿斯麥占比63%排名第一，佳能占比32%排名第二，尼康占比5%排名第三。

目前，全球光刻機市場被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷，其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機的專利技術(shù)，可以制造出7納米以下的先進芯片。

位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機，形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

2018年11月29日，國家重大科研裝備研制項目“超分辨光刻裝備研制”通過驗收。該光刻機由中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所研制，光刻分辨力達到22納米，結(jié)合雙重曝光技術(shù)后，未來還可用于制造10納米級別的芯片。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告》顯示：

受益于下游晶圓巨大需求、服務(wù)器云計算和5G基礎(chǔ)建設(shè)的發(fā)展,帶動相關(guān)芯片的需求,2020年光刻機銷售額與銷量增速穩(wěn)定提升。

2020年全球光刻機銷量為413臺，隨著下游市場需求持續(xù)升高，2022全球市場仍將持續(xù)增長，銷量約為510臺。從產(chǎn)品結(jié)構(gòu)來看，銷量最多的是i-Line，占比達34%。其次分別為KrF、ArF immersio、Arf dry、EUV，占比分別為31%、19%、8%及8%。

《國家集成電路產(chǎn)業(yè)發(fā)展推進綱要》，提出“研發(fā)光刻機、刻蝕機、離子注入機等關(guān)鍵設(shè)備，開發(fā)光刻膠、大 尺英寸硅片等關(guān)鍵材料”;

《國務(wù)院關(guān)于印發(fā)“十三五”國家科技創(chuàng)新規(guī)劃的通知》提出“突破28納米浸沒式光刻機及核心部件”等政策規(guī)劃為光刻機產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供了良好的政策發(fā)展環(huán)境。

半導(dǎo)體是光刻機的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，中國政府出臺一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，進而推動了光刻機市場規(guī)模的上漲。

2022年中國光刻機行業(yè)市場規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來看，中國光刻機行業(yè)華東地區(qū)占比最重，占比為51.8%。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國光刻機產(chǎn)量約為95臺，需求量約為652臺。光刻機的研發(fā)、制造和維護成本較高，特別是高性能光刻機。

然而，在市場競爭加劇的情況下，制造商為了降低成本和提高競爭力，不得不考慮降低價格。這導(dǎo)致了市場均價的下降。2022年中國光刻機均價約為2267.2萬元/臺。

要想讓我國自主研發(fā)的光刻機真正走向市場，還需要加大投入，提高效率，降低成本，提升品質(zhì)，擴大產(chǎn)能。這需要我國在政策、資金、人才、市場等方面給予光刻機產(chǎn)業(yè)更多的支持和鼓勵，同時也需要光刻機產(chǎn)業(yè)自身不斷創(chuàng)新和突破，與國際水平接軌。只有這樣，我國才能在光刻機領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)自主可控，為芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展提供堅實的基礎(chǔ)。

中研普華利用多種獨創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對市場海量的數(shù)據(jù)進行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù)，最大限度地降低客戶投資風險與經(jīng)營成本，把握投資機遇，提高企業(yè)競爭力。

想要了解更多最新的專業(yè)分析請點擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告》。

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  2022-2027年光刻機產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告

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