光刻機(jī)巨頭ASML季盈利飆升近兩倍半 預(yù)計(jì)2021年?duì)I收增長(zhǎng)將接近30%

• 2021年4月21日 LiuMingYue來(lái)源：新浪財(cái)經(jīng) cnbeta 591 33
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荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML周三發(fā)布財(cái)報(bào)稱(chēng)，第一季度凈盈利13.3億歐元，較上年同期的3.906億歐元飆升近2.5倍，因全球芯片荒之下其設(shè)備需求大幅增長(zhǎng)。凈營(yíng)收增長(zhǎng)近80%，從上年同期的24.4億歐元增至43.6億歐元。

荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML周三發(fā)布財(cái)報(bào)稱(chēng)，第一季度凈盈利13.3億歐元，較上年同期的3.906億歐元飆升近2.5倍，因全球芯片荒之下其設(shè)備需求大幅增長(zhǎng)。凈營(yíng)收增長(zhǎng)近80%，從上年同期的24.4億歐元增至43.6億歐元。毛利率達(dá)到53.9%。ASML還表示，預(yù)計(jì)將提前完成去年1月宣布的60億歐元股票回購(gòu)計(jì)劃，因?yàn)槟壳皬?qiáng)勁的現(xiàn)金流將使其在未來(lái)幾個(gè)季度能夠大量回購(gòu)股票。

光刻機(jī)又名掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī)，曝光系統(tǒng)，光刻系統(tǒng)等，是制造芯片的核心裝備。它采用類(lèi)似照片沖印的技術(shù)，把掩膜版上的精細(xì)圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅片上。鍍膜光刻機(jī)是通過(guò)磁控濺射、多弧離子鍍或其他類(lèi)型的鍍膜系統(tǒng)在適當(dāng)工藝條件下濺射在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。

主要的光刻機(jī)生產(chǎn)廠家包括：ASML、尼康、佳能、歐泰克、上海微電子裝備、SUSS、ABM Inc.等。

高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號(hào)稱(chēng)世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱(chēng)現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來(lái)自德國(guó))，日本Nikon(intel曾經(jīng)購(gòu)買(mǎi)過(guò)Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成光刻機(jī)產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷(xiāo)售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。

從產(chǎn)業(yè)結(jié)構(gòu)來(lái)看，隨著我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，IC設(shè)計(jì)、芯片制造和封裝測(cè)試三個(gè)子行業(yè)的格局正在不斷變化，我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈結(jié)構(gòu)也在不斷優(yōu)化。我國(guó)集成電路設(shè)計(jì)業(yè)占我國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)鏈的比重一直保持在35%以上，并由2015年的36.7%增長(zhǎng)至2019年的40.5%，發(fā)展速度總體高于行業(yè)平均水平，已成為集成電路各細(xì)分行業(yè)中占比最高的子行業(yè)。

2019年中國(guó)集成電路產(chǎn)業(yè)銷(xiāo)售收入為7562.3億元，同比增長(zhǎng)15.80%，其中集成電路設(shè)計(jì)業(yè)銷(xiāo)售收入為3063.5億元，同比增長(zhǎng)21.6%，占總值40.5%;晶圓制造業(yè)銷(xiāo)售收入為2149.1億元，同比增長(zhǎng)18.20%，占總值的28.40%;封測(cè)業(yè)銷(xiāo)售收入為2349.7億元，同比增長(zhǎng)7.10%，占總值的31.1%。

隨著光刻機(jī)行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇，大型企業(yè)間并購(gòu)整合與資本運(yùn)作日趨頻繁，國(guó)內(nèi)外優(yōu)秀的光刻機(jī)企業(yè)愈來(lái)愈重視對(duì)行業(yè)市場(chǎng)的分析研究，特別是對(duì)當(dāng)前市場(chǎng)環(huán)境和客戶(hù)需求趨勢(shì)變化的深入研究，以期提前占領(lǐng)市場(chǎng)，取得先發(fā)優(yōu)勢(shì)。中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對(duì)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，最大限度地降低客戶(hù)投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。

更多行業(yè)發(fā)展前景分析，可點(diǎn)擊中研研究院出版的《2021-2025年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢(xún)綜合研究報(bào)告》。

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