光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。
2020年全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約為19億美元
光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。2016-2019年，全球半導(dǎo)體光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模從15億美元增長(zhǎng)至2019年的18億美元，年復(fù)合增速達(dá)6.3%，2020年，全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模約為19億美元。全球半導(dǎo)體光刻膠領(lǐng)域主要被JSR、TOK、羅門哈斯、信越化學(xué)、富士材料等頭部廠商壟斷，尤其是高端EUV和ArF光刻膠幾乎完全被美國和日本控制。國產(chǎn)光刻膠企業(yè)無論是技術(shù)水平還是市場(chǎng)份額均遠(yuǎn)落后世界先進(jìn)廠商。
光刻膠，又稱為光致抗蝕劑，是利用光化學(xué)反應(yīng)經(jīng)曝光、顯影、刻蝕等工藝將所需要的微細(xì)圖形從掩模版轉(zhuǎn)移到待加工基片上的圖形轉(zhuǎn)移介質(zhì)，通過曝光其溶解度發(fā)生變化的耐蝕刻薄膜材料。光刻膠是PCB、LCD和半導(dǎo)體等各應(yīng)用行業(yè)的上游材料，一般相同用途的光刻膠，由于投資大、市場(chǎng)比下游應(yīng)用行業(yè)小，行業(yè)集中度非常高，只能有幾家企業(yè)生存。光刻膠專用化學(xué)品具有相似特征，即品種多、用量小、品質(zhì)要求高，投資相對(duì)普通化學(xué)品大，行業(yè)集中度高。
而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場(chǎng)高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。
我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā)，目前整體還處于起步階段，工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有很大的差距，尖端材料及設(shè)備仍依賴進(jìn)口。例如，京東方目前已建立17個(gè)面板顯示生產(chǎn)基地，其中有16個(gè)已經(jīng)投產(chǎn)，但京東方用于高端面板的光刻膠仍然由國外企業(yè)提供。目前光刻膠市場(chǎng)上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家，包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等，中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。
普通的光刻膠在成像過程中，由于存在一定的衍射、反射和散射，降低了光刻膠圖形的對(duì)比度，從而降低了圖形的分辨率。隨著曝光加工特征尺寸的縮小，入射光的反射和散射對(duì)提高圖形分辨率的影響也越來越大。為了提高曝光系統(tǒng)分辨率的性能，人們正在研究在曝光光刻膠的表面覆蓋抗反射涂層的新型光刻膠技術(shù)。伴隨著新一代曝光技術(shù)(NGL)的研究與發(fā)展，為了更好的滿足其所能實(shí)現(xiàn)光刻分辨率的同時(shí)，光刻膠也相應(yīng)發(fā)展。先進(jìn)曝光技術(shù)對(duì)光刻膠的性能要求也越來越高。
在一個(gè)供大于求的需求經(jīng)濟(jì)時(shí)代，企業(yè)成功的關(guān)鍵就在于，是否能夠在需求尚未形成之時(shí)就牢牢地鎖定并捕捉到它。那些成功的公司往往都會(huì)傾盡畢生的精力及資源搜尋產(chǎn)業(yè)的當(dāng)前需求、潛在需求以及新的需求。隨著光刻膠行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)的不斷加劇，國內(nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)愈來愈重視對(duì)市場(chǎng)的研究，特別是對(duì)企業(yè)發(fā)展環(huán)境和客戶需求趨勢(shì)變化的深入研究。正因?yàn)槿绱?，一大批國?nèi)優(yōu)秀的行業(yè)企業(yè)迅速崛起，逐漸成為行業(yè)中的翹楚!
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