平板行業(yè)掩膜版全球市場規(guī)模約為60億人民幣,我國占比約52%,我國年復(fù)合增速為20%。半導(dǎo)體行業(yè)掩膜版市場規(guī)模約300億人民幣,我國占比約0.6%,我國復(fù)合增速超過15%,國產(chǎn)替代空間巨大。
掩膜版,又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
掩膜上承載著設(shè)計圖形,光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻,掩膜不直接與晶圓表面接觸。
平板行業(yè)掩膜版全球市場規(guī)模約為60億人民幣,我國占比約52%,我國年復(fù)合增速為20%。半導(dǎo)體行業(yè)掩膜版市場規(guī)模約300億人民幣,我國占比約0.6%,我國復(fù)合增速超過15%,國產(chǎn)替代空間巨大。
國內(nèi)空白掩膜版未來45億市場規(guī)模下有望誕生十億級公司。國內(nèi)空白掩膜版市場需求2019年約為5.1億美元(35億人民幣),空白掩膜版的自給率為22.4%(1.14億美元)。隨著國產(chǎn)替代加快,掩膜版行業(yè)整體規(guī)模的增加,到2030年國內(nèi)空白掩膜版需求規(guī)模有望達(dá)到11.5億美元規(guī)模,而空白掩膜版自給規(guī)模有望達(dá)到7.12億美元(45億人民幣)。
據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》分析
掩膜版上游主要包括圖形設(shè)計、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè),主要供應(yīng)廠商包括日本東曹,日本信越化學(xué)、日本尼康和菲利華等;2.中游為掩膜版制造行業(yè),主要企業(yè)包括日本HOYA,日本 DNP,韓國 LG-IT、日本 SKE 和清溢光電;3.下游主要包括 IC 制造、IC 封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域,主要客戶為半導(dǎo)體廠商英特爾、三星、臺積電等以及顯示屏廠商京東方、華星光電等。
電子信息產(chǎn)業(yè)是我國國民經(jīng)濟(jì)和社會發(fā)展的戰(zhàn)略性、基礎(chǔ)性、先導(dǎo)性產(chǎn)業(yè),而掩膜版行業(yè)則是電子信息產(chǎn)業(yè)不可缺少的重要組成部分。從產(chǎn)業(yè)鏈來看,掩膜版產(chǎn)業(yè)位于電子信息產(chǎn)業(yè)的上游,其主導(dǎo)產(chǎn)品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控和電路板等行業(yè))生產(chǎn)制造過程中的核心模具,起到橋梁和紐帶的作用,電子元器件制造商的產(chǎn)品則廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域。因此,掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費(fèi)品行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為本行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。
1.大尺寸
隨著人們消費(fèi)的不斷升級,屏幕的大尺寸化已成為平板顯示持續(xù)的演進(jìn)方向。這主要是因?yàn)槠桨屣@示新的畫質(zhì)規(guī)格提升都集中在大尺寸和超大尺寸上,尤其是55英寸及以上的產(chǎn)品。這些規(guī)格的改善包括8K分辨率、mini LED背光、量子點(diǎn)背光(QLED)、高色域、超窄邊框、四面超窄邊框、超纖薄、高動態(tài)范圍(HDR)對比度等。由于這些新功能在32英寸、43英寸、50英寸這樣的小尺寸上都無法實(shí)現(xiàn),所以55英寸及以上的顯示產(chǎn)品的需求持續(xù)升溫。
近幾年面板廠商積極投資與擴(kuò)產(chǎn)大尺寸世代線,面板尺寸的增大帶動其上游材料掩膜版朝著大尺寸化的方向發(fā)展,也會帶動大尺寸掩膜版的需求增長。
2.高精度
平板顯示技術(shù)持續(xù)更新與發(fā)展,加之5G傳輸技術(shù)同步推進(jìn),超高清視頻產(chǎn)業(yè)發(fā)展前景廣闊。高分辨率終端顯示產(chǎn)品的不斷滲透與發(fā)展也必然會帶動掩膜版朝著高精細(xì)化的方向發(fā)展。掩膜版作為平板顯示制造過程的關(guān)鍵材料,對面板產(chǎn)品的精度起決定性的作用,這也意味著對掩膜版的精度提出了更高的技術(shù)要求。近年來隨著平板顯示解析度不斷提高,TFT半導(dǎo)體主動層材料已逐步采用LTPS/Oxide技術(shù),并朝著LTPO(低溫多晶氧化物〉等新技術(shù)演變。對于掩膜版的配套技術(shù)要求,主要體現(xiàn)在曝光分辨率(最小線寬線縫)、最小孔或方塊、CD均勻性以及套合精度的不斷提升。
想要了解更多掩膜版行業(yè)的發(fā)展前景,請查閱《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》。
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