光刻膠行業(yè)前景研究：高端半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)市場需求迫切

• 吳亞楠 2024年4月15日 來源：互聯(lián)網(wǎng) 683 40
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光刻膠按下游應(yīng)用領(lǐng)域可分為PCB、LCD/OLED面板和半導(dǎo)體光刻膠，與光刻膠配套試劑一起在光刻工藝中作為耗材。其中半導(dǎo)體光刻膠壁壘最高，市場增速高于整體光刻膠市場增速。

光刻膠是精細(xì)化工行業(yè)技術(shù)壁壘最高的材料，被譽為電子化學(xué)品產(chǎn)業(yè)“皇冠上的明珠”，其已成為中國芯片自主化的關(guān)鍵，有著極為重要的戰(zhàn)略意義和實際價值。

光刻膠行業(yè)面臨著技術(shù)門檻高、研發(fā)投入大、市場競爭激烈等挑戰(zhàn)。然而，隨著全球電子信息產(chǎn)品制造基地逐漸向中國轉(zhuǎn)移，以及國內(nèi)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展，光刻膠行業(yè)也迎來了巨大的發(fā)展機遇。國內(nèi)企業(yè)可以抓住市場機遇。

根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2024-2029年中國光刻膠行業(yè)深度分析與投資前景分析報告》顯示：

光刻膠行業(yè)前景研究

光刻膠的應(yīng)用范圍主要有PCB板，LCD，LED和半導(dǎo)體，前面三種技術(shù)要求相對較低，但我國企業(yè)仍然沒有實現(xiàn)完全自給。而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場高度集中，幾乎被日美企業(yè)壟斷，生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。

光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。

國內(nèi)光刻膠企業(yè)的技術(shù)不斷突破和產(chǎn)品質(zhì)量不斷提升，國產(chǎn)化替代將成為未來市場的重要趨勢。國內(nèi)企業(yè)有望通過技術(shù)創(chuàng)新和市場拓展，逐步占據(jù)更多的市場份額。

光刻膠按下游應(yīng)用領(lǐng)域可分為PCB、LCD/OLED面板和半導(dǎo)體光刻膠，與光刻膠配套試劑一起在光刻工藝中作為耗材。其中半導(dǎo)體光刻膠壁壘最高，市場增速高于整體光刻膠市場增速。

光刻膠市場規(guī)模近年來持續(xù)增長，尤其在半導(dǎo)體行業(yè)的需求推動下，市場增長勢頭強勁。隨著技術(shù)的不斷進步和下游應(yīng)用領(lǐng)域的拓展，光刻膠市場規(guī)模有望在未來幾年繼續(xù)擴大。

根據(jù)SEMI數(shù)據(jù)，2022年全球半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模為26.4億美元，同比增長6.82%;大陸半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模為5.93億美元，同比增長20.47%，增速遠高于全球半導(dǎo)體光刻膠市場。國投證券馬良分析指出，半導(dǎo)體光刻膠壁壘高，高端半導(dǎo)體光刻膠國產(chǎn)市場需求迫切。

高端光刻膠推動國產(chǎn)化

作為半導(dǎo)體上游核心支柱，半導(dǎo)體材料肩負(fù)著中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈安全自主可控的重要使命，尤其是光刻膠作為芯片制造過程中的關(guān)鍵材料發(fā)揮著不可替代的作用。

面臨光刻膠隨時被“卡脖子”的形勢，光刻膠的國產(chǎn)化大勢已不可逆，近幾年國產(chǎn)化環(huán)境也持續(xù)向好，一批優(yōu)秀的本土廠商脫穎而出。

其中，國產(chǎn)替代代表廠商徐州博康專注于光刻膠研發(fā)，致力于實現(xiàn)供應(yīng)鏈自主可控。該公司成立于2010年3月，研發(fā)中心位于上海松江臨港科技園，中試基地位于上海金山，在江蘇邳州、浙江東陽有兩個生產(chǎn)基地，是一家專注于中高端光刻膠及相關(guān)原材料研發(fā)制造的國家高新技術(shù)企業(yè)。目前，其已成功開發(fā)ArF/KrF單體及光刻膠、G線/I線光刻膠、電子束光刻膠系列產(chǎn)品近百款，廣泛應(yīng)用于集成電路、分立器件、先進封裝等領(lǐng)域，客戶全面覆蓋國內(nèi)70余家芯片制造商。其中ArF-immersion產(chǎn)品已經(jīng)適用于28~45nm制程，可擴展至14nm。值得一提的是，基于完整產(chǎn)業(yè)鏈獨特視角及產(chǎn)業(yè)化優(yōu)勢，徐州博康可根據(jù)客戶需求定制研發(fā)，亦可圍繞客戶就近建設(shè)配膠中心，保持光刻材料供應(yīng)的穩(wěn)定、快速、可靠。

半導(dǎo)體用光刻膠單體已有多個產(chǎn)品量產(chǎn)，在研產(chǎn)品也有數(shù)十種，多數(shù)為ArF級別，也有KrF級別，有一款用于EUV級別的光刻膠單體中試批次已經(jīng)通過客戶驗證，并且有百公斤級的銷售，客戶將進一步生產(chǎn)為光刻膠進行性能驗證。瑞聯(lián)新材3月14日發(fā)布機構(gòu)調(diào)研公告，關(guān)于TFT平坦層光刻膠，公司已經(jīng)于2023年取得南非的專利，近期取得了中國的專利授權(quán)通知書，美國的專利正在申請中。

光刻膠市場競爭格局

隨著光刻技術(shù)的不斷發(fā)展，對光刻膠的性能要求也在不斷提高。未來，光刻膠行業(yè)將繼續(xù)致力于提高分辨率、降低缺陷率、提升生產(chǎn)效率等方面的技術(shù)創(chuàng)新。

半導(dǎo)體、平板顯示、PCB等產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展為光刻膠行業(yè)提供了廣闊的市場空間。尤其是半導(dǎo)體行業(yè)，隨著5G、人工智能、物聯(lián)網(wǎng)等領(lǐng)域的快速發(fā)展，對高性能光刻膠的需求將持續(xù)增長。

光刻膠市場呈現(xiàn)出高度的國際競爭態(tài)勢。目前，全球高端半導(dǎo)體光刻膠市場主要被日本和美國公司壟斷，日企全球市占率約80%，處于絕對領(lǐng)先地位。主流廠商包括日本的東京應(yīng)化、JSR、富士、信越化學(xué)、住友化學(xué)，以及美國杜邦等。

國內(nèi)光刻膠行業(yè)起步較晚，但近年來發(fā)展迅速，已經(jīng)涌現(xiàn)出一批具有一定競爭力的本土企業(yè)，如晶瑞電材(蘇州瑞紅)、彤程新材(北京科華)、華懋科技(徐州康博)等。這些企業(yè)已經(jīng)在G/I線、KrF與ArF技術(shù)方面取得布局，但在EUV技術(shù)方面仍暫處空白狀態(tài)。

在激烈的市場競爭中，企業(yè)及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的光刻膠行業(yè)報告對中國光刻膠行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟環(huán)境、社會環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機遇及挑戰(zhàn)。同時揭示了市場潛在需求與潛在機會，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時機和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場情報信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時對政府部門也具有極大的參考價值。

想了解關(guān)于更多光刻膠行業(yè)專業(yè)分析，可點擊查看中研普華研究院撰寫的《2024-2029年中國光刻膠行業(yè)深度分析與投資前景分析報告》。同時本報告還包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風(fēng)險和機遇。

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  2024-2029年中國光刻膠行業(yè)深度分析與投資前景分析報告

  光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇...

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