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          當(dāng)前位置:中研網(wǎng) > 結(jié)果頁(yè)

          預(yù)計(jì)2027年中國(guó)CMP拋光市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到69.14億元  2024CMP拋光材料行業(yè)市場(chǎng)前景趨勢(shì)預(yù)測(cè)

          隨著集成電路技術(shù)發(fā)展CMP步驟和復(fù)雜性增加。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn),下游客戶在制造過程中使用CMP工藝的集成電路比例在不斷增加,對(duì)CMP材料種類和用量的需求也在增加;預(yù)計(jì)2027年中國(guó)CMP拋光市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到69.14億元。。

          隨著未來(lái)芯片尺寸不斷減小的趨勢(shì),CMP拋光的步驟將不斷增加,對(duì)CMP材料的需求也將不斷增加。鑒于中國(guó)大陸已是全球最大的半導(dǎo)體市場(chǎng),半導(dǎo)體材料作為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的重要組成,未來(lái)的發(fā)展?jié)摿薮蟆?/span>

          隨著集成電路技術(shù)發(fā)展CMP步驟和復(fù)雜性增加。隨著技術(shù)節(jié)點(diǎn)的推進(jìn),下游客戶在制造過程中使用CMP工藝的集成電路比例在不斷增加,對(duì)CMP材料種類和用量的需求也在增加;預(yù)計(jì)2027年中國(guó)CMP拋光市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)到69.14億元。

          根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國(guó)CMP拋光材料市場(chǎng)與發(fā)展趨勢(shì)分析報(bào)告》顯示

          CMP拋光材料在工業(yè)領(lǐng)域有著廣泛的應(yīng)用,如機(jī)械制造、電子器件制造、醫(yī)療設(shè)備制造等。在半導(dǎo)體和光學(xué)元件制造中,CMP拋光材料發(fā)揮著重要的作用。此外,CMP拋光材料還廣泛應(yīng)用于珠寶行業(yè),如首飾打磨、寶石鑲嵌和表面處理等方面。

          CMP拋光材料市場(chǎng)現(xiàn)狀分析

          CMP拋光液產(chǎn)業(yè)鏈上游主要為研磨顆粒、PH調(diào)節(jié)劑、分散劑、氧化劑以及表面活性劑等原材料,其中,研磨顆粒是CMP拋光液生產(chǎn)關(guān)鍵原材料;CMP拋光液產(chǎn)業(yè)鏈中游主要為CMP拋光液的生產(chǎn)制備;CMP拋光液產(chǎn)業(yè)鏈下游應(yīng)用領(lǐng)域?yàn)榘雽?dǎo)體產(chǎn)業(yè),其中集成電路為主要領(lǐng)域,其他領(lǐng)域包括分立器件、光電子器件(LED芯片等)和傳感器等。

          在集成電路制造流程中往往需要循環(huán)多次使用 CMP 工藝,涉及硅片制造、前道及后道 環(huán)節(jié)。根據(jù)SEMI,2022年全球半導(dǎo)體材料市場(chǎng)銷售額增長(zhǎng)8.9%,達(dá)到727億美元,超過了2021年創(chuàng)下的668億美元的前一市場(chǎng)高點(diǎn)。其中,晶圓制造材料和封裝材料的銷售額分別達(dá)到447億美元和280億美元,分別增長(zhǎng)10.5%和6.3%。

          我國(guó)CMP拋光液發(fā)展主要可分為兩個(gè)發(fā)展階段,一是2000年以前,我國(guó)CMP拋光液行業(yè)乃至整個(gè)CMP拋光材料行業(yè)處于真空期,CMP工藝和拋光材料制造核心技術(shù)被國(guó)際巨頭壟斷;二是2000年以后,全球半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)移至中國(guó),我國(guó)CMP拋光液行業(yè)隨之開始發(fā)展,但從全球看,美國(guó)、日本等國(guó)仍占據(jù)行業(yè)主導(dǎo)地位。

          近年來(lái)全球 CMP 市場(chǎng)規(guī)??傮w呈增長(zhǎng)趨勢(shì)。2017 年及2018 年,全球 CMP 設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模分別為 22.65 億美元及 25.82 億美元,同比增速分別為 29.36%及 14.00%,市場(chǎng)規(guī)模呈現(xiàn)快速增長(zhǎng)趨勢(shì);2019 年及 2020年,受全球半導(dǎo)體景氣度下滑影響,全球 CMP 設(shè)備的市場(chǎng)規(guī)模有所下降;2021年,隨著半導(dǎo)體行業(yè)景氣度回暖,全球 CMP 設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模迅速回升至 27.83 億美元。2022 年,全球 CMP 設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為 27.78 億美元,市場(chǎng)規(guī)模保持穩(wěn)定。

          根據(jù) SEMI 數(shù)據(jù),2020 年至 2022 年,中國(guó)大陸 CMP 設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模分別為4.29 億美元、4.90 億美元和 6.66 億美元。全球 CMP 設(shè)備市場(chǎng)中,中國(guó)大陸市場(chǎng)規(guī)模連續(xù) 3 年保持全球第一。

          CMP 拋光材料行業(yè)市場(chǎng)前景趨勢(shì)預(yù)測(cè)

          當(dāng)下亞太地區(qū)將成為重要增長(zhǎng)點(diǎn),亞太地區(qū),特別是中國(guó)、韓國(guó)和日本等國(guó)家和地區(qū),由于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,將成為CMP拋光材料市場(chǎng)的重要增長(zhǎng)點(diǎn)。這些地區(qū)的集成電路生產(chǎn)技術(shù)的提升,將推動(dòng)CMP拋光材料行業(yè)市場(chǎng)擴(kuò)容。

          此外,CMP拋光材料市場(chǎng)具有較高的競(jìng)爭(zhēng)程度,目前主要供應(yīng)商包括一些國(guó)際知名企業(yè)。然而,隨著國(guó)內(nèi)企業(yè)的不斷發(fā)展和技術(shù)創(chuàng)新,國(guó)內(nèi)企業(yè)有望逐漸在市場(chǎng)中占據(jù)更重要的地位,特別是在中低端市場(chǎng)。此外,隨著市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的加劇,小型供應(yīng)商也將通過專業(yè)化和定制化服務(wù)來(lái)滿足特定客戶的需求。

          隨著技術(shù)的不斷創(chuàng)新,CMP拋光液和拋光墊的研發(fā)進(jìn)展將日新月異。新型拋光液和拋光墊的研發(fā)將不斷推出,以滿足不同材料、不同工藝的需求。同時(shí),現(xiàn)有產(chǎn)品的性能也將不斷優(yōu)化和提升,如提高拋光效率、降低表面粗糙度等。這些研發(fā)進(jìn)展將為CMP拋光液和拋光墊行業(yè)的發(fā)展提供有力支持。

          政策和市場(chǎng)環(huán)境將影響行業(yè)發(fā)展:政策和市場(chǎng)環(huán)境對(duì)CMP拋光材料行業(yè)的發(fā)展也具有重要影響。中國(guó)政府對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的高度重視和扶持政策將推動(dòng)中國(guó)半導(dǎo)體CMP拋光材料行業(yè)的發(fā)展。同時(shí),國(guó)際政策對(duì)半導(dǎo)體材料的出口管制也將利好中國(guó)CMP拋光材料行業(yè)的發(fā)展。

          綜上所述,CMP拋光材料行業(yè)市場(chǎng)前景趨勢(shì)整體呈現(xiàn)出增長(zhǎng)態(tài)勢(shì),但市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)將更加激烈,技術(shù)創(chuàng)新將成為推動(dòng)行業(yè)發(fā)展的重要?jiǎng)恿?。同時(shí),政策和市場(chǎng)環(huán)境也將對(duì)行業(yè)發(fā)展產(chǎn)生重要影響。因此,企業(yè)需要密切關(guān)注市場(chǎng)動(dòng)態(tài)和政策變化,加強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新和產(chǎn)品研發(fā),提高產(chǎn)品質(zhì)量和服務(wù)水平,以應(yīng)對(duì)市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)和挑戰(zhàn)。

          更多行業(yè)詳情請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國(guó)CMP拋光材料市場(chǎng)與發(fā)展趨勢(shì)分析報(bào)告》。

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