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          2023光刻膠行業(yè)市場發(fā)展現(xiàn)狀及市場格局分析

          光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

          光刻膠市場前景如何?光刻膠又稱光致抗蝕劑,是指通過紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射,其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對光敏感的混合液體。在光刻工藝過程中,用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時,若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠,可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負性兩大類。

          在光刻膠工藝過程中,涂層曝光、顯影后,曝光部分被溶解,未曝光部分留下來,該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來,而未曝光被溶解,該涂層材料為負性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同,又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。

          光刻膠行業(yè)市場發(fā)展現(xiàn)狀及市場格局分析

          光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜,品種規(guī)格較多,在電子工業(yè)集成電路的制造中,對所使用光刻膠有嚴格的要求。

          光刻膠是PCB、LCD和半導(dǎo)體等各應(yīng)用行業(yè)的上游材料,一般相同用途的光刻膠,由于投資大、市場比下游應(yīng)用行業(yè)小,行業(yè)集中度非常高,只能有幾家企業(yè)生存。光刻膠專用化學(xué)品具有相似特征,即品種多、用量小、品質(zhì)要求高,投資相對普通化學(xué)品大,行業(yè)集中度高。

          近年來,中央及地方接連出臺一系列政策法規(guī),支持和引導(dǎo)國內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)發(fā)展,進一步完善我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈布局。而在政策大力助推下,半導(dǎo)體的國產(chǎn)替代也不斷顯現(xiàn)成效。2021年中國集成電路產(chǎn)業(yè)首次突破萬億元。中國半導(dǎo)體行業(yè)協(xié)會統(tǒng)計,2021年中國集成電路產(chǎn)業(yè)銷售額達到10458.3億元,同比增長18.2%。光刻膠領(lǐng)域全球具有百億市場。2021年全球光刻膠市場規(guī)模約為19億美元,預(yù)計2022年將達到21.34億美元,同比增長12.32%。

          光刻膠是國際上技術(shù)門檻最高的微電子化學(xué)品之一,在大規(guī)模集成電路的制造過程中,光刻和刻蝕技術(shù)是精細線路圖形加工中最重要的工藝,占芯片制造時間的40%~50%,光刻膠是光刻工藝得以實現(xiàn)選擇性刻蝕的關(guān)鍵材料。光刻膠的應(yīng)用范圍主要有PCB板,LCD,LED和半導(dǎo)體,前面三種技術(shù)要求相對較低,但我國企業(yè)仍然沒有實現(xiàn)完全自給。而半導(dǎo)體光刻膠技術(shù)壁壘較高、市場高度集中,幾乎被日美企業(yè)壟斷,生產(chǎn)商主要有日本JSR、信越化學(xué)工業(yè)、日本TOK、陶氏化學(xué)等。

          根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來發(fā)展現(xiàn)狀趨勢預(yù)測報告》顯示:

          從全球市場來看,2021年行業(yè)CR6約為88%,市場集中度高。東京應(yīng)化、JSR、住友化學(xué)、富士膠片四大日本企業(yè)分別占據(jù)27%、13%、12%、8%的市場份額,陶氏化學(xué)占據(jù)17%的市場份額,韓國東進占據(jù)11%的市場份額。根據(jù)TECHCET統(tǒng)計,2020年ArF干式和浸沒式光刻膠占據(jù)了48%的市場份額,KrF和G線/I線光刻膠分別占據(jù)34%和16%的市場份額。預(yù)計至2025年ArF干式及浸沒式光刻膠仍然能占據(jù)45%的市場份額。

          我國在2000年左右才開始著手光刻膠的研發(fā),目前整體還處于起步階段,工藝技術(shù)水平與國外企業(yè)有很大的差距,尖端材料及設(shè)備仍依賴進口。例如,京東方目前已建立17個面板顯示生產(chǎn)基地,其中有16個已經(jīng)投產(chǎn),但京東方用于高端面板的光刻膠仍然由國外企業(yè)提供。目前光刻膠市場上的參與者多是來自于美國、日本、韓國等國家,包括陶氏化學(xué)、杜邦、富士膠片、信越化學(xué)、住友化學(xué)、LG化學(xué)等等,中國公司在光刻膠領(lǐng)域也缺少核心技術(shù)。

          我國光刻膠市場主要由日系的JSR、信越化學(xué)、東京應(yīng)化等少數(shù)公司所壟斷,國內(nèi)光刻膠大規(guī)模產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn)企業(yè)相對較少且企業(yè)所占市場份額較低,如2021年,晶瑞電材光刻膠業(yè)務(wù)收入為2.74億元,所占行業(yè)市場份額僅2.94%;國內(nèi)大部分企業(yè)目前仍處于光刻膠產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)階段或光刻膠生產(chǎn)線加緊建設(shè)階段。

          2022年11 月份市場有消息稱美國杜邦、陶氏、德國AZ、日本TOK 或?qū)喙┌ǜ叨斯饪棠zKrF、ArF 在內(nèi)的部分半導(dǎo)體材料。日美企業(yè)廠商占據(jù)國內(nèi)高端光刻膠市場大部分份額,一旦斷供,國內(nèi)多家晶圓廠或?qū)⒚媾R光刻膠缺貨風(fēng)險,將主動或被動的快速導(dǎo)入國產(chǎn)光刻膠,國內(nèi)企業(yè)迎來高端光刻膠國產(chǎn)替代良機。

          光刻膠市場發(fā)展趨勢預(yù)測

          近年,電子信息產(chǎn)業(yè)更新?lián)Q代速度加快,疊加半導(dǎo)體、顯示面板產(chǎn)業(yè)東移,國內(nèi)光刻膠需求快速提升,我國光刻膠市場規(guī)模從2015年的100億元增至2020年的176億元,年均復(fù)合增速達12%;據(jù)測算,2022-2025年市場規(guī)模將達222、250、281和316億元,成長空間廣闊。

          中國作為未來全球晶圓產(chǎn)能增長的主力軍,當(dāng)前到 2025 年在建和計劃 8 寸和 12 寸晶圓產(chǎn)能總共達到 84 萬/片,增幅為當(dāng)前 的 60%,結(jié)合到 2021-2025 年五年時間完全達產(chǎn),給予平均每年 12%作為我國半導(dǎo)體光刻膠中性復(fù)合增速;由于我國的芯片產(chǎn)能結(jié)構(gòu)將整體提高,2020 年KrF 和ArF 的占 比分別為37.0%和44.0%,給予二者未來更大的占比假設(shè),KrF膠占比40.0%,ArF膠占比45.0%。綜上情況和假設(shè)判斷到2025 年,我國半導(dǎo)體光刻膠市場規(guī)模將保守在40億元,樂觀50億元以上。

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