光刻膠概念異動(dòng)拉升 張江高科漲超8% 光刻膠市場(chǎng)深度分析2023

• 黃文玉 2023年8月2日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 354 16
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。

光刻膠概念異動(dòng)拉升

2023年8月2日，光刻膠概念異動(dòng)拉升，張江高科漲超8%，安泰科技、容大感光、芯源微、藍(lán)英裝備等跟漲。

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。

在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對(duì)所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。

光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈上游主要為樹(shù)脂、光引發(fā)劑、單體等;中游依據(jù)應(yīng)用范圍不同分為PCB光刻膠、LCD光刻膠以及半導(dǎo)體光刻膠，其中半導(dǎo)體光刻膠對(duì)工藝要求更為精細(xì);下游則主要為半導(dǎo)體、PCB、平板顯示屏等。

光刻膠行業(yè)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀分析

隨著集成度的提高，光刻膠的分辨率的要求越來(lái)越高，所用的光源波長(zhǎng)越來(lái)越短。因?yàn)楣饪棠z成像時(shí)可分辨線寬與曝光波長(zhǎng)成正比，與曝光機(jī)透鏡開(kāi)口數(shù)成反比，所以縮短曝光波長(zhǎng)是提高分辨率的主要途徑。光刻工藝經(jīng)歷了從g線、i線光刻的近紫外(NUV)，進(jìn)入到深紫外(DUV)248 nm光刻，以及193 nm光刻的發(fā)展歷程。值得指出的是：現(xiàn)代曝光技術(shù)不僅要求高的分辨率，而且要有工藝寬容度和經(jīng)濟(jì)性，顯然光源的波長(zhǎng)越短，光刻膠的分辨率越高，感光樹(shù)脂合成的難度也越大。

在平板顯示器制造中，平板顯示器電路的制作、等離子顯示器障壁的制作、液晶顯示器彩色濾光片的制作均需采用光刻技術(shù)，使用不同類型的光刻膠。按用途可分為TFT用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。

隨著光刻膠的發(fā)展，技術(shù)越來(lái)越成熟，下游應(yīng)用場(chǎng)景也越來(lái)越豐富，在全球光刻膠市場(chǎng)中，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%，各類型光刻膠占比較為平均，全球光刻膠產(chǎn)品占比較為均衡。隨著下游制造需求的逐漸擴(kuò)大，我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)鏈雛形初現(xiàn)，市場(chǎng)規(guī)模增長(zhǎng)顯著。數(shù)據(jù)顯示，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模由2017年58.7億元增至2020年84億元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為12.7%。

根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2023-2028年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)深度全景調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》顯示：

我國(guó)大陸憑借勞動(dòng)力成本和終端市場(chǎng)需求等優(yōu)勢(shì)逐漸成為全球最大的電子信息產(chǎn)品制造基地，隨著半導(dǎo)體、PCB、面板產(chǎn)能的不斷增長(zhǎng)，上游材料光刻膠市場(chǎng)需求實(shí)現(xiàn)同步增長(zhǎng)，光刻膠產(chǎn)量快速增長(zhǎng)。數(shù)據(jù)顯示，2020年我國(guó)光刻膠產(chǎn)量達(dá)13萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)18.2%。在全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)中，日本企業(yè)牢牢占據(jù)龍頭地位，至少占據(jù)60%以上。據(jù)統(tǒng)計(jì)，2016-2021年全球半導(dǎo)體光刻膠的市場(chǎng)規(guī)模從15億美元增長(zhǎng)至21.4億美元，復(fù)合增長(zhǎng)率為7%。中國(guó)半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)規(guī)模逐年增加，由2017年的15.8億元增長(zhǎng)至2021年的20.5億元，增長(zhǎng)幅度29.7%，復(fù)合增長(zhǎng)率為6.7%。

我國(guó)光刻膠生產(chǎn)能力主要集中PCB光刻膠，占比高達(dá)94%;半導(dǎo)體光刻膠由于技術(shù)壁壘較高僅占2%。高端光刻膠是生產(chǎn)28nm、14nm乃至10nm以下制程的關(guān)鍵，被國(guó)外巨頭壟斷，國(guó)產(chǎn)化任重道遠(yuǎn)。光刻膠生產(chǎn)制造主要被日本JSR、東京應(yīng)化、信越化學(xué)、住友化學(xué)等制造商所壟斷，尤其在高分辨率的KrF和ArF光刻膠領(lǐng)域，其核心技術(shù)基本由美國(guó)和日本制造商所掌握。

我國(guó)本土企業(yè)與國(guó)外光刻膠制造商仍存在差距，但近年來(lái)，我國(guó)本土企業(yè)逐漸發(fā)展，部分國(guó)內(nèi)企業(yè)已在光刻膠等高端產(chǎn)品進(jìn)口替代取得突破。數(shù)據(jù)顯示，東京應(yīng)化市場(chǎng)占比最大達(dá)27%，杜邦、JSR、住友化學(xué)市場(chǎng)占比分別為17%、13%、13%。統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)顯示：中國(guó)光刻膠市場(chǎng)主要由日本、美國(guó)廠商占據(jù)：其中，東京應(yīng)化、杜邦、JSR、住友化學(xué)、DONGJIM的市場(chǎng)份額分別為27%、17%、13%、13%、11%，合計(jì)80%。

光刻膠行業(yè)未來(lái)發(fā)展趨勢(shì)預(yù)測(cè)

在“中國(guó)制造2025”的背景下，2025年要實(shí)現(xiàn)70%的核心基礎(chǔ)零部件、關(guān)鍵基礎(chǔ)材料自主保障，80種標(biāo)志性先進(jìn)工藝得到推廣應(yīng)用，部分達(dá)到國(guó)際領(lǐng)先水平，建成較為完善的產(chǎn)業(yè)技術(shù)基礎(chǔ)服務(wù)體系，逐步形成整機(jī)牽引和基礎(chǔ)支撐協(xié)調(diào)互動(dòng)的產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新發(fā)展格局。

由于光刻膠技術(shù)壁壘高，在所有半導(dǎo)體材料中進(jìn)口替代空間最大，目前中國(guó)企業(yè)正積極追趕國(guó)際最先進(jìn)的光刻膠技術(shù)，大量投入研發(fā)積累核心競(jìng)爭(zhēng)力。

中研普華利用多種獨(dú)創(chuàng)的信息處理技術(shù)，對(duì)市場(chǎng)海量的數(shù)據(jù)進(jìn)行采集、整理、加工、分析、傳遞，為客戶提供一攬子信息解決方案和咨詢服務(wù)，最大限度地降低客戶投資風(fēng)險(xiǎn)與經(jīng)營(yíng)成本，把握投資機(jī)遇，提高企業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力。想要了解更多最新的專業(yè)分析請(qǐng)點(diǎn)擊中研普華產(chǎn)業(yè)研究院的《2023-2028年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)深度全景調(diào)研及投資前景分析報(bào)告》。

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  2023-2028年中國(guó)光刻膠市場(chǎng)深度全景調(diào)研及投資前景分析報(bào)告

  光刻膠行業(yè)研究報(bào)告主要分析了光刻膠行業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模、光刻膠市場(chǎng)供需求狀況、光刻膠市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況和光刻膠主要企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況，同時(shí)對(duì)光刻膠行業(yè)的未來(lái)發(fā)展做出科學(xué)的預(yù)測(cè)。中研普華憑借多年的行業(yè)...

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