掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費(fèi)品行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為本行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。
掩膜版是微納加工技術(shù)常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構(gòu),再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。掩膜上承載著設(shè)計圖形,光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻,掩膜不直接與晶圓表面接觸。
掩膜版行業(yè)的發(fā)展與其下游電子元器件行業(yè)乃至終端電子消費(fèi)品行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。下游行業(yè)市場規(guī)模的不斷增長也為本行業(yè)提供了更為廣闊的市場空間。從產(chǎn)業(yè)鏈來看,掩膜版產(chǎn)業(yè)位于電子信息產(chǎn)業(yè)的上游,其主導(dǎo)產(chǎn)品掩膜版是下游電子元器件制造商(平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控和電路板等行業(yè))生產(chǎn)制造過程中的核心模具,起到橋梁和紐帶的作用,電子元器件制造商的產(chǎn)品則廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域。
掩膜版行業(yè)作為電子元器件的上游行業(yè),屬于國家發(fā)展戰(zhàn)略的重要環(huán)節(jié)之一,受國家產(chǎn)業(yè)政策支持,這為掩膜版行業(yè)提供了良好的發(fā)展機(jī)遇。隨著電子信息技術(shù)的日新月異,5G技術(shù)和人工智能帶動下游終端電子產(chǎn)品的更新?lián)Q代速度越來越快,以平板電視、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)、智能手機(jī)等產(chǎn)品為主的消費(fèi)類電子產(chǎn)品產(chǎn)銷量持續(xù)增長,為平板顯示、半導(dǎo)體芯片、觸控、電路板等電子元器件相關(guān)行業(yè)帶來巨大的市場空間,間接帶動了掩膜版行業(yè)的發(fā)展。
據(jù)中研產(chǎn)業(yè)研究院報告《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》分析
在掩膜版下游應(yīng)用中,平板顯示和半導(dǎo)體是掩膜版最主要的兩個應(yīng)用領(lǐng)域。在平板顯示掩膜版領(lǐng)域,2016年至2019年全球平板顯示掩膜版的市場規(guī)模671億日元增至1010億日元,年均復(fù)合增長率達(dá)14.58%。受新冠疫情影響,2020年下滑至903億日元,同比減少10.57%,隨著疫情形勢的好轉(zhuǎn),預(yù)計2022年市場規(guī)模將增長至1026億日元。
全球掩膜版市場主要由日本凸版印刷(Toppan)、大日本印刷(DNP)、美國福尼克斯(Photronics)、日本豪雅(Hoya)等企業(yè)占據(jù),其中前三家企業(yè)占據(jù)全球掩膜版市場約80%的份額。
在半導(dǎo)體領(lǐng)域,除英特爾、三星、臺積電三家全球最先進(jìn)的晶圓制造廠所用的掩膜版自供外,其它的半導(dǎo)體掩膜版主要被美國Photronics、日本DNP以及日本Toppan三家公司所壟斷。國內(nèi)少數(shù)企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等,只能制造0.13μm以上StepperMask。
光掩模具有十分高的技術(shù)門檻,導(dǎo)致光掩模市場集中度高,寡頭壟斷嚴(yán)重,Photronics、大日本印刷株式會社DNP和日本凸版印刷株式會社Toppan三家占據(jù)80%以上的市場份額。由于國外企業(yè)長期對光掩模的生產(chǎn)技術(shù)和設(shè)備嚴(yán)格保密,目前國產(chǎn)光掩模只能應(yīng)用在低端市場,高端光掩模仍然高度依賴進(jìn)口。
國產(chǎn)化逐步推進(jìn)
中國光掩膜版行業(yè)僅能滿足國內(nèi)中低檔產(chǎn)品市場需求。據(jù)Omdia統(tǒng)計,2020年全球平板顯示掩膜版企業(yè)銷售排行榜,清溢光電作為中國大陸唯一上榜企業(yè),排名第五,其他為日美韓企業(yè)。近年來,國內(nèi)企業(yè)通過不斷的技術(shù)研發(fā)和產(chǎn)品升級,逐漸縮小與國際競爭對手的市場地位差距。
想要了解更多掩膜版行業(yè)的發(fā)展前景,請查閱《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》。
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2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告
掩膜版,又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。掩膜上承載著設(shè)計圖形,光源投...
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