2024年光刻機行業(yè)現(xiàn)狀及重點企業(yè)分析

• 馮少杰 2024年4月2日 來源：中研網(wǎng) 1354 89
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近年來，光刻機市場呈現(xiàn)出穩(wěn)步增長趨勢。受益于下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的快速發(fā)展，光刻機銷售額與銷量增速穩(wěn)定提升。

光刻機是半導體芯片生產(chǎn)過程中的關鍵設備，主要用于將電路圖案從掩模上轉移到硅片上，實現(xiàn)芯片的功能。光刻機在半導體芯片制造中扮演著至關重要的角色，其技術水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。

光刻機行業(yè)是一個高度技術密集和資本密集的行業(yè)，涉及精密機械、光學、電子、化學等多個領域。隨著集成電路制造工藝的逐步升級和先進微電子器件的不斷涌現(xiàn)，光刻技術也得到了迅猛發(fā)展。

近年來，光刻機市場呈現(xiàn)出穩(wěn)步增長趨勢。受益于下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的快速發(fā)展，光刻機銷售額與銷量增速穩(wěn)定提升。

光刻機行業(yè)現(xiàn)狀分析

在全球半導體設備行業(yè)迎來復蘇的大背景下，下游晶圓市場的巨大需求、服務器云計算和5G基礎建設的蓬勃發(fā)展，共同推動了相關芯片需求的激增。自2020年以來，光刻機作為半導體制造過程中的關鍵設備，其銷售額與銷量增速均呈現(xiàn)出穩(wěn)定提升的趨勢。

據(jù)中研普華研究院撰寫的《2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》顯示，2022年全球光刻機銷量達到了510臺，這一數(shù)字充分反映了全球半導體產(chǎn)業(yè)對光刻機設備的旺盛需求。而隨著下游市場需求的持續(xù)升高，預計2023年全球光刻機市場仍將持續(xù)增長。據(jù)業(yè)內(nèi)預測，今年全球光刻機銷量有望達到564臺，進一步彰顯出半導體行業(yè)的強勁發(fā)展勢頭。

圖表：2018-2023年全球光刻機銷量情況

光刻機作為半導體制造工藝中的核心設備，其技術水平和性能直接影響到芯片制造的精度和效率。隨著技術的不斷進步和市場需求的日益增長，光刻機設備也在不斷升級和優(yōu)化，以滿足更高精度、更高效率的芯片制造需求。

此外，服務器云計算和5G基礎建設的快速發(fā)展，為光刻機市場提供了廣闊的應用空間。云計算和5G技術的普及，使得大數(shù)據(jù)處理、人工智能等應用得以快速發(fā)展，進而推動了芯片需求的不斷增長。這也為光刻機等半導體設備制造商提供了更多的發(fā)展機遇。

中國光刻機重點企業(yè)

1.上海微電子裝備有限公司

該公司自主研發(fā)的600系列光刻機，已成功實現(xiàn)90nm工藝的量產(chǎn)，并且在努力突破技術瓶頸，預計不久將交付第一臺28nm工藝的國產(chǎn)沉浸式光刻機。上海微電子裝備有限公司憑借其在光刻機領域的深厚積累和持續(xù)創(chuàng)新，為中國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展做出了重要貢獻。

2.北京華卓精科科技股份有限公司

華卓精科的雙臺系列光刻機主要應用于65nm及以下節(jié)點的ArF干式、浸沒式步進掃描光刻機等高端領域。公司憑借其在精密光學和精密機械領域的強大研發(fā)實力，不斷推動國產(chǎn)光刻機向更高精度、更高效率邁進。

3.北京科益虹源光電技術有限公司

科益虹源專注于光刻用激光器的研發(fā)和生產(chǎn)，其產(chǎn)品包括248nm準分子激光器、光刻用干式193nm準分子激光器和光刻用浸沒式193nm準分子激光器等。這些激光器是光刻機的核心部件，科益虹源的技術突破為國產(chǎn)光刻機的發(fā)展提供了有力支撐。

4.長春國科精密光學技術有限公司

國科精密光學致力于高端光刻機曝光光學系統(tǒng)、日盲紫外探測模組以及高端光學檢測產(chǎn)品的研發(fā)和生產(chǎn)。其產(chǎn)品在光刻機領域具有廣泛的應用，為提升國產(chǎn)光刻機的性能和質(zhì)量發(fā)揮了重要作用。

5.北京國望光學科技有限公司

國望光學成功研發(fā)了我國首套90nm節(jié)點ArF投影光刻機曝光光學系統(tǒng)和110nm節(jié)點KrF光刻機曝光光學系統(tǒng)。這些系統(tǒng)的成功研制，標志著我國在高端光刻機曝光光學技術方面取得了重大突破。

6.浙江啟爾機電技術有限公司

啟爾機電專注于流體凈化、流體測量和流體控制技術的研發(fā)，特別是在光刻機浸液系統(tǒng)方面取得了顯著成果。其浸液系統(tǒng)的高精度和穩(wěn)定性，為提升光刻機的工藝精度和可靠性提供了重要保障。

7.東方晶源微電子科技公司

東方晶源微電子科技公司專注于20納米以下極大規(guī)模半導體芯片制程的電子束圖像檢測裝備和綜合優(yōu)化系統(tǒng)的研發(fā)與生產(chǎn)。其高速高精度的檢測系統(tǒng)為光刻機等關鍵工序提供了重要的質(zhì)量保障，有力推動了中國半導體制造技術的進步。

更多光刻機行業(yè)深度分析，請點擊查看中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2024-2029年光刻機行業(yè)市場深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報告》。

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