光刻膠市場(chǎng)深度調(diào)研及光刻膠進(jìn)出口市場(chǎng)分析2023

• 黃文玉 2023年9月13日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 844 52
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光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。

一、光刻膠的概念及分類(lèi)

光刻膠又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。

光刻膠按其形成的圖像分類(lèi)有正性、負(fù)性兩大類(lèi)。在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。按曝光光源和輻射源的不同，又分為紫外光刻膠(包括紫外正、負(fù)性光刻膠)、深紫外光刻膠、X-射線膠、電子束膠、離子束膠等。光刻膠主要應(yīng)用于顯示面板、集成電路和半導(dǎo)體分立器件等細(xì)微圖形加工作業(yè)。光刻膠生產(chǎn)技術(shù)較為復(fù)雜，品種規(guī)格較多，在電子工業(yè)集成電路的制造中，對(duì)所使用光刻膠有嚴(yán)格的要求。

電子束輻射刻蝕，就是以高速、高能(通常為10-20 keV)的粒子流與抗蝕劑分子碰撞，利用非彈性碰撞所喪失的能量被分子吸收后，誘發(fā)化學(xué)反應(yīng)，抗蝕劑分子、原子吸收這部分能量后，放出二次電子、三次電子，由于激勵(lì)抗蝕分子等原因而失去能量，漸漸地成為低能電子。組成光刻膠的原子為C、H、O等，這些原子的電離勢(shì)大約為幾十至幾百eV。因此，當(dāng)這些電子(包括二次、三次電子)的能量低至幾十電子伏特時(shí)，將強(qiáng)烈地誘導(dǎo)化學(xué)反應(yīng)。

此外，在電子束電子失去能量的過(guò)程中，還會(huì)產(chǎn)生多種離子和原子團(tuán)(化學(xué)自由基)，它們都有強(qiáng)烈的反應(yīng)性能，也會(huì)引起多種化學(xué)反應(yīng)。引起抗蝕劑分子交聯(lián)(負(fù)性光刻膠)或斷裂降解(正性光刻膠)，利用曝光后曝光區(qū)與非曝光區(qū)在溶劑中溶解性以及溶解速率的差異，經(jīng)顯影后得到圖像。電子束光刻要求抗蝕劑具有高的靈敏度、對(duì)比度以及抗干法蝕刻選擇性，由于電子束光刻不存在紫外吸收問(wèn)題，因而對(duì)材料的選擇比較廣泛。

二、光刻膠行業(yè)市場(chǎng)現(xiàn)狀分析

在全球光刻膠市場(chǎng)中，LCD光刻膠占比27.3%，PCB光刻膠占比23%，半導(dǎo)體光刻膠占比21.9%，各類(lèi)型光刻膠占比較為平均，全球光刻膠產(chǎn)品占比較為均衡。

在平板顯示器制造中，平板顯示器電路的制作、等離子顯示器障壁的制作、液晶顯示器彩色濾光片的制作均需采用光刻技術(shù)，使用不同類(lèi)型的光刻膠。按用途可分為T(mén)FT用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。數(shù)據(jù)顯示，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模由2017年58.7億元增至2020年84億元，年均復(fù)合增長(zhǎng)率為12.7%。數(shù)據(jù)顯示，2020年我國(guó)光刻膠產(chǎn)量達(dá)13萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)18.2%。2021年，國(guó)內(nèi)光刻膠產(chǎn)業(yè)生產(chǎn)總量為15萬(wàn)噸，同比增長(zhǎng)15.38%;產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模為93.3億元，同比增長(zhǎng)11.07%。

隨著國(guó)內(nèi)外晶圓廠產(chǎn)能擴(kuò)張項(xiàng)目逐步落地，全球半導(dǎo)體光刻膠市場(chǎng)需求呈現(xiàn)穩(wěn)步向上態(tài)勢(shì)，在市場(chǎng)需求增長(zhǎng)及國(guó)家系列政策推動(dòng)作用下，我國(guó)光刻膠的市場(chǎng)需求加速釋放，2017-2022年，國(guó)內(nèi)光刻膠年生產(chǎn)總量復(fù)合增長(zhǎng)15.51%，產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)規(guī)模復(fù)合增長(zhǎng)9.03%。

目前，我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)主要產(chǎn)品型號(hào)種類(lèi)包括有PCB光刻膠、面板光刻膠、半導(dǎo)體光刻膠等，產(chǎn)業(yè)市場(chǎng)消費(fèi)占比比例分別為94%、3%、2%，行業(yè)主要需求市場(chǎng)仍由印制電路板(PCB)產(chǎn)業(yè)占據(jù)。隨著科技水平的不斷提升，物聯(lián)網(wǎng)、汽車(chē)電子、工業(yè)4.0、云端服務(wù)器、存儲(chǔ)設(shè)備等將成為驅(qū)動(dòng)PCB需求增長(zhǎng)的新方向，疊加PCB向高密度化、薄型高多層化等高技術(shù)含量化發(fā)展運(yùn)行，將帶動(dòng)國(guó)內(nèi)外PCB光刻膠用量持續(xù)增長(zhǎng)。

三、光刻膠行業(yè)相關(guān)資訊及政策分析

國(guó)家科技重大專項(xiàng)“極大規(guī)模集成電路制造裝備與成套工藝”專項(xiàng)(02專項(xiàng))項(xiàng)目“極紫外光刻膠材料與實(shí)驗(yàn)室檢測(cè)技術(shù)研究”，經(jīng)過(guò)項(xiàng)目組全體成員的努力攻關(guān)，完成了EUV光刻膠關(guān)鍵材料的設(shè)計(jì)、制備和合成工藝研究、配方組成和光刻膠制備、實(shí)驗(yàn)室光刻膠性能的初步評(píng)價(jià)裝備的研發(fā)，達(dá)到了任務(wù)書(shū)中規(guī)定的材料和裝備的考核指標(biāo)。2019年11月25日，8種“光刻膠及其關(guān)鍵原材料和配套試劑”入選工信部《重點(diǎn)新材料首批次應(yīng)用示范指導(dǎo)目錄(2019年版)》。

為貫徹落實(shí)《國(guó)務(wù)院關(guān)于印發(fā)新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展若干政策的通知》(國(guó)發(fā)〔2020〕8號(hào))，經(jīng)國(guó)務(wù)院同意，現(xiàn)將有關(guān)進(jìn)口稅收政策通知如下：對(duì)下列情形，免征進(jìn)口關(guān)稅：(一)集成電路產(chǎn)業(yè)的關(guān)鍵原材料、零配件(即靶材、光刻膠、掩模版、封裝載板、拋光墊、拋光液、8英寸及以上硅單晶、8英寸及以上硅片)生產(chǎn)企業(yè)，進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)或性能不能滿足需求的自用生產(chǎn)性原材料、消耗品。(二)集成電路用光刻膠、掩模版、8英寸及以上硅片生產(chǎn)企業(yè)，進(jìn)口國(guó)內(nèi)不能生產(chǎn)或性能不能滿足需求的凈化室專用建筑材料、配套系統(tǒng)和生產(chǎn)設(shè)備(包括進(jìn)口設(shè)備和國(guó)產(chǎn)設(shè)備)零配件。

四、光刻膠行業(yè)進(jìn)出口市場(chǎng)分析

2022年，我國(guó)光刻膠產(chǎn)業(yè)進(jìn)出口產(chǎn)品貿(mào)易實(shí)現(xiàn)平均價(jià)格分別為43953.13美元/噸、9152.48美元/噸，進(jìn)出口產(chǎn)品貿(mào)易均價(jià)差達(dá)34800.64美元/噸。值得注意的是，我國(guó)光刻膠進(jìn)口產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)平均價(jià)格持續(xù)保持在43000美元/噸上下，與國(guó)內(nèi)出口光刻膠產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)均價(jià)差持續(xù)保持在35000美元/噸上下。

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