2023光刻機市場發(fā)展供需格局調(diào)查

• 黃江 2023年12月19日 來源：新浪 1370 90
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目前，全球光刻機市場被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷，其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機的專利技術(shù)，可以制造出7納米以下的先進芯片。

光刻機的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機可分為步進投影和掃描投影光刻機兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機號稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺的光刻機。高端光刻機堪稱現(xiàn)代光學工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國)，日本Nikon(intel曾經(jīng)購買過Nikon的高端光刻機)和日本Canon三大品牌為主。

2023年光刻機國產(chǎn)化發(fā)展現(xiàn)狀

ASML證實公司可在2023年底前向中國大陸客戶出口先進浸沒式DUV，包括TWINSCANNXT:2000i及更先進的型號，EUV仍在禁運清單內(nèi)。2024年起，上述先進設備將較難獲得出口許可證。

自3月以來，ASML一直將“最先進”理解為NXT:2000i及之后的浸沒式設備。據(jù)了解，2023年二季度，ASML共確收39臺浸沒式DUV(2022年二季度為21臺，2023年一季度為25臺)，占設備總收入的49%;2023年二季度公司來自中國大陸的收入約13.5億歐元，同比增長225%、環(huán)比增長215%，占比飆升至24%。且公司積壓的380億歐元在手訂單中(截至2023年二季度末)，中國大陸的積壓量超過20%。從ASML的業(yè)績可見，中國大陸的諸多Fab正積極采購以滿足后續(xù)擴產(chǎn)需求。

據(jù)中航證券統(tǒng)計，未來3年，中國大陸晶圓產(chǎn)能有望以遠超行業(yè)的速度增長，2023~2025年同比增長18.8%、19.6%、17.4%，自主產(chǎn)能逐步爬坡，到2025年8&12英寸的自主產(chǎn)能占比將提升至17%。

本次延長先進光刻機出貨，國內(nèi)成熟晶圓廠可以順利擴產(chǎn)，且先進制程突破可期;疊加近期華為Mate60的王者回歸，也提振了板塊的投資信心。明年后，無論是整機自研配套零部件，或是備件更換都會更多依賴國內(nèi)零部件供應商。且光刻機零部件成本占比高、市場空間大，2022年ASML設備收入154億歐元，產(chǎn)品相關(guān)的供應鏈支出86億歐元，超過5成。從長期看，光刻機上游零部件依舊具備投資價值。

光刻機行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局，前三供應商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據(jù)絕大多數(shù)市場份額。從營收來看，尼康占比84%，佳能占比9%，阿斯麥占比7%。2022年光刻機市占率按出貨量來看 ，阿斯麥占比63%排名第一，佳能占比32%排名第二，尼康占比5%排名第三。

全球光刻機市場壟斷格局

目前，全球光刻機市場被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷，其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機的專利技術(shù)，可以制造出7納米以下的先進芯片。

位于我國上海的SMEE已研制出具有自主知識產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機，形成產(chǎn)品系列初步實現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機為接近、接觸式光刻機，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國SUSS、美國MYCRO NXQ4006、以及中國品牌。

根據(jù)中研普華研究院《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告》顯示：

半導體是光刻機的主要應用領域之一，中國政府出臺一系列政策支持半導體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國內(nèi)半導體制造業(yè)的發(fā)展，進而推動了光刻機市場規(guī)模的上漲。2022年中國光刻機行業(yè)市場規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來看，中國光刻機行業(yè)華東地區(qū)占比最重，占比為51.8%。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國光刻機產(chǎn)量約為95臺，需求量約為652臺。光刻機的研發(fā)、制造和維護成本較高，特別是高性能光刻機。然而，在市場競爭加劇的情況下，制造商為了降低成本和提高競爭力，不得不考慮降低價格。這導致了市場均價的下降。2022年中國光刻機均價約為2267.2萬元/臺。

荷蘭光刻機巨頭對華出口飆升

全球最大的光刻機供應商荷蘭巨頭阿斯麥(ASML)二季度對華出貨量猛增。7月19日，阿斯麥發(fā)布2023年第二季度財報顯示，第二季度，阿斯麥對中國大陸的出貨量在總量中占比達到24%，是所有地區(qū)中環(huán)比增幅最大的。

如果計算成具體數(shù)量，阿斯麥一季度對華(指大陸)出貨光刻系統(tǒng)8臺，二季度出貨量飆升至27臺。

中國市場帶來的貢獻在阿斯麥全球總收入中占比已超16%。當下，中國半導體產(chǎn)業(yè)對于中高端光刻機的需求逐步增加，尤其是在全球高端芯片供應緊張的背景下，中國企業(yè)加快了自主研發(fā)的步伐。

光刻機是半導體上游晶圓制造工藝的最核心設備，決定著芯片的性能和工藝水平。目前，在上游晶圓制造、設計等領域，國內(nèi)主流企業(yè)均積極擴充產(chǎn)能，逐步推動本土設備、材料等環(huán)節(jié)突破，帶動半導體設備國產(chǎn)化率持續(xù)上升。

例如，華虹半導體于近期啟動了科創(chuàng)板IPO，擬募資180億元用于晶圓廠擴產(chǎn)升級等。公司表示，其增長性主要來自市場需求增長和產(chǎn)能擴張。近三年來公司旗下4座晶圓廠產(chǎn)能利用率持續(xù)飽滿。

國際半導體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(SEMI)預計，到2026年，全球?qū)⒂?6座新的晶圓廠。從分布來看，其中26座將在中國。天眼查數(shù)據(jù)顯示，截至目前，我國經(jīng)營范圍涵蓋“晶圓代工”的企業(yè)達3840余家，2023年新增注冊企業(yè)20余家。

同時，在新興半導體產(chǎn)業(yè)鏈領域，新材料需求旺盛，三安光電、東尼電子等公司紛紛加大碳化硅襯底片布局力度，進一步提振半導體設備商市場。

在產(chǎn)業(yè)鏈積極擴產(chǎn)、新動能發(fā)展壯大背景下，半導體相關(guān)制造環(huán)節(jié)加快發(fā)展。國家統(tǒng)計局新聞發(fā)言人付凌暉近日表示，上半年，半導體器件專用設備制造業(yè)、電子元器件及機電組建設備制造增加值同比分別增長30.9%和46.5%。

雖然我國在光刻機領域起步較晚，且在一定程度上受制于國外技術(shù)封鎖和出口限制，但近年來國內(nèi)企業(yè)加速推進光刻機關(guān)鍵技術(shù)的研發(fā)攻關(guān)。從90納米制程到28納米制程，甚至是7納米制程，中國的光刻技術(shù)飛速發(fā)展。

政策方面來看，我國對于半導體設備自主化的支持力度有望持續(xù)提升，從需求端來看，國內(nèi)晶圓廠擴產(chǎn)帶來的需求有望支持國內(nèi)半導體設備企業(yè)持續(xù)快速成長，國產(chǎn)半導體設備大有可為。

《2023-2028年光刻機市場發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預測報告》由中研普華研究院撰寫，本報告對該行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、行業(yè)發(fā)展變化等進行了分析，重點分析了行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競爭力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢預測等等。報告還綜合了行業(yè)的整體發(fā)展動態(tài)，對行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。

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