光刻機(jī)行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局,前三供應(yīng)商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據(jù)絕大多數(shù)市場(chǎng)份額。從營(yíng)收來(lái)看,尼康占比84%,佳能占比9%,阿斯麥占比7%。
伴隨著半導(dǎo)體的應(yīng)用范圍日益廣泛,光刻機(jī)的市場(chǎng)需求不斷上升。光刻機(jī)是半導(dǎo)體制造過(guò)程中價(jià)值量和技術(shù)壁壘最高的設(shè)備之一。全球光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模超230億美元,ASML處于絕對(duì)領(lǐng)先,國(guó)內(nèi)市場(chǎng)規(guī)模超200億元,但是國(guó)產(chǎn)化率僅2.5%。中國(guó)光刻機(jī)處于核心“卡脖子”狀態(tài)。
根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示:
2023光刻機(jī)市場(chǎng)現(xiàn)狀調(diào)查及全球市場(chǎng)份額占比
半導(dǎo)體是光刻機(jī)的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一,中國(guó)政府出臺(tái)一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè),包括資金支持、稅收優(yōu)惠等,刺激了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展,進(jìn)而推動(dòng)了光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模的上漲。2022年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來(lái)看,中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)華東地區(qū)占比最重,占比為51.8%。
根據(jù)數(shù)據(jù)顯示,2022年中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái),需求量約為652臺(tái)。光刻機(jī)的研發(fā)、制造和維護(hù)成本較高,特別是高性能光刻機(jī)。然而,在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇的情況下,制造商為了降低成本和提高競(jìng)爭(zhēng)力,不得不考慮降低價(jià)格。這導(dǎo)致了市場(chǎng)均價(jià)的下降。2022年中國(guó)光刻機(jī)均價(jià)約為2267.2萬(wàn)元/臺(tái)。
光刻機(jī)是一種極其復(fù)雜的機(jī)器,集電子、電氣、光學(xué)、機(jī)械、物理、計(jì)算、材料等眾多學(xué)科為一體。光刻機(jī)內(nèi)部構(gòu)造復(fù)雜,由大量零部件組成,需要來(lái)自全球的供應(yīng)鏈伙伴提供。
公開資料顯示,2019年以來(lái),阿斯麥的EUV光刻機(jī)對(duì)華出口已受到限制,這一系統(tǒng)可以支持3納米芯片制造,如蘋果的A17 Pro芯片。今年9月起,荷蘭政府關(guān)于半導(dǎo)體設(shè)備的出口管制新規(guī)正式生效,阿斯麥部分先進(jìn)的浸潤(rùn)式DUV(深紫外線)光刻機(jī)出口需申請(qǐng)?jiān)S可證。不過(guò),阿斯麥日前表示,荷蘭政府已允許該公司在今年繼續(xù)發(fā)運(yùn)前述被列入出口管制新規(guī)的光刻機(jī)。
阿斯麥每年均投入大量資金開展研發(fā)。2022年全年,阿斯麥研發(fā)投入超過(guò)33億歐元,約占凈銷售的15.6%。2023年的研發(fā)投入預(yù)計(jì)將達(dá)到銷售額的20%左右。
光刻機(jī)主要作用是通過(guò)包含器件結(jié)構(gòu)信息的圖型化掩膜版及光刻膠,在半導(dǎo)體材料表面形成一定形狀的器件結(jié)構(gòu),前道光刻機(jī)和后道光刻機(jī)雖然都是光刻機(jī),但工藝、用途不一樣,前者用于器件成型,后者做金屬電極接觸。
光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈主要包括上游設(shè)備及配套材料、中游光刻機(jī)系統(tǒng)集成和生產(chǎn)及下游光刻機(jī)應(yīng)用三大環(huán)節(jié),技術(shù)極為復(fù)雜,涉及系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù),部分機(jī)型所需的零部件更是多達(dá)數(shù)十萬(wàn)件,因此光刻機(jī)的生產(chǎn)通常涉及上千家供應(yīng)商。
其中,光刻機(jī)上游國(guó)內(nèi)代表企業(yè)包括福晶科技、奧普光電、南大光電、容大感光、華潤(rùn)微、精測(cè)電子、芯源微、菲利華、清溢光電、茂萊光學(xué)、美??萍嫉取?/p>
光刻機(jī)的品牌眾多,根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類:高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種,分辨率通常七納米至幾微米之間,高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最精密的儀器,世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花,其制造難度之大,全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來(lái)自德國(guó)),日本Nikon(intel曾經(jīng)購(gòu)買過(guò)Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。
光刻機(jī)行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局,前三供應(yīng)商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據(jù)絕大多數(shù)市場(chǎng)份額。從營(yíng)收來(lái)看,尼康占比84%,佳能占比9%,阿斯麥占比7%。2022年光刻機(jī)市占率按出貨量來(lái)看 ,阿斯麥占比63%排名第一,佳能占比32%排名第二,尼康占比5%排名第三。
目前,全球光刻機(jī)市場(chǎng)被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷,其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機(jī)的專利技術(shù),可以制造出7納米以下的先進(jìn)芯片。
在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中,企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場(chǎng)決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的光刻機(jī)行業(yè)報(bào)告對(duì)中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競(jìng)爭(zhēng)格局及市場(chǎng)供需形勢(shì)進(jìn)行了具體分析,并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會(huì)環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。同時(shí)揭示了光刻機(jī)市場(chǎng)潛在需求與潛在機(jī)會(huì),為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時(shí)機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場(chǎng)情報(bào)信息及科學(xué)的決策依據(jù),同時(shí)對(duì)政府部門也具有極大的參考價(jià)值。
未來(lái)市場(chǎng)發(fā)展如何?想了解關(guān)于更多光刻機(jī)行業(yè)專業(yè)分析,可點(diǎn)擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》。
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2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告
光刻機(jī)研究報(bào)告對(duì)光刻機(jī)行業(yè)研究的內(nèi)容和方法進(jìn)行全面的闡述和論證,對(duì)研究過(guò)程中所獲取的光刻機(jī)資料進(jìn)行全面系統(tǒng)的整理和分析,通過(guò)圖表、統(tǒng)計(jì)結(jié)果及文獻(xiàn)資料,或以縱向的發(fā)展過(guò)程,或橫向類別...
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