隨著各大晶圓廠加速引進(jìn)EUV制程，研調(diào)TECHCET預(yù)估，金屬氧化物、干式光刻膠等材料市場(chǎng)將大幅成長(zhǎng)，預(yù)計(jì)2025年市場(chǎng)規(guī)模將從去年的5,000萬(wàn)美元，增加3倍超過(guò)2億美元。
國(guó)內(nèi)光刻膠需求分析。光刻膠(Photoresist)又稱光致抗蝕劑，是指通過(guò)紫外光、電子束、離子束、X射線等的照射或輻射，其溶解度發(fā)生變化的耐蝕劑刻薄膜材料。由感光樹(shù)脂、增感劑和溶劑3種主要成分組成的對(duì)光敏感的混合液體。
光刻膠主要應(yīng)用于半導(dǎo)體、顯示面板和PCB等領(lǐng)域，其中顯示面板用占比27%，PCB和半導(dǎo)體用占比分別為25%和24%。
2022年光刻膠研究現(xiàn)狀及發(fā)展趨勢(shì)
隨著各大晶圓廠加速引進(jìn)EUV制程，研調(diào)TECHCET預(yù)估，金屬氧化物、干式光刻膠等材料市場(chǎng)將大幅成長(zhǎng)，預(yù)計(jì)2025年市場(chǎng)規(guī)模將從去年的5,000萬(wàn)美元，增加3倍超過(guò)2億美元。
近年，電子信息產(chǎn)業(yè)更新?lián)Q代速度加快，疊加半導(dǎo)體、顯示面板產(chǎn)業(yè)東移，國(guó)內(nèi)光刻膠需求快速提升，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2015年的100億元增至2020年的176億元，年均復(fù)合增速達(dá)12%;據(jù)測(cè)算，2022-2025年市場(chǎng)規(guī)模將達(dá)222、250、281和316億元，成長(zhǎng)空間廣闊。
根據(jù)中研普華研究院《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：
光刻膠屬于技術(shù)和資本密集型行業(yè)，全球供應(yīng)市場(chǎng)高度集中，日本JSR等五家龍頭企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，同時(shí)海外龍頭也已實(shí)現(xiàn)EUV等高端制程量產(chǎn)。
國(guó)內(nèi)光刻膠高端領(lǐng)域逐步突破
我國(guó)光刻膠行業(yè)發(fā)展起步較晚，生產(chǎn)能力主要集中在PCB光刻膠、TN/STN-LCD光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中PCB光刻膠占比達(dá)94%，而TFT-LCD、半導(dǎo)體光刻膠等高端產(chǎn)品仍需大量進(jìn)口。
近年來(lái)，我國(guó)政府大力扶持半導(dǎo)體與原料產(chǎn)業(yè)發(fā)展，陸續(xù)出臺(tái)了多項(xiàng)政策支持光刻膠行業(yè)發(fā)展，推動(dòng)產(chǎn)業(yè)大力研發(fā)，突破“卡脖子”技術(shù)，早日實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)鏈核心技術(shù)國(guó)產(chǎn)化。
先進(jìn)制程半導(dǎo)體光刻膠方面，目前適用于6英寸硅片的g線、i線光刻膠國(guó)內(nèi)自給率約為10%，適用于8英寸硅片的KrF光刻膠國(guó)內(nèi)自給率不足5%，適用于12寸硅片的ArF光刻膠國(guó)內(nèi)基本依靠進(jìn)口，而EUV光刻膠還仍處研發(fā)階段。
想了解光刻膠行業(yè)市場(chǎng)更多相關(guān)信息，可點(diǎn)擊中研普華《2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告》。
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2022-2027年光刻膠產(chǎn)業(yè)深度調(diào)研及未來(lái)發(fā)展現(xiàn)狀趨勢(shì)預(yù)測(cè)報(bào)告
光刻膠行業(yè)研究報(bào)告主要分析了光刻膠行業(yè)的市場(chǎng)規(guī)模、光刻膠市場(chǎng)供需求狀況、光刻膠市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)狀況和光刻膠主要企業(yè)經(jīng)營(yíng)情況、光刻膠市場(chǎng)主要企業(yè)的市場(chǎng)占有率，同時(shí)對(duì)光刻膠行業(yè)的未來(lái)發(fā)展做出科...
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