2023年光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化發(fā)展現(xiàn)狀 中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái)

• 黃江 2023年9月11日 來源：新浪 1212 78
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目前，全球光刻機(jī)市場(chǎng)被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷，其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機(jī)的專利技術(shù)，可以制造出7納米以下的先進(jìn)芯片。

光刻機(jī)的品牌眾多，根據(jù)采用不同技術(shù)路線的可以歸納成如下幾類：高端的投影式光刻機(jī)可分為步進(jìn)投影和掃描投影光刻機(jī)兩種，分辨率通常七納米至幾微米之間，高端光刻機(jī)號(hào)稱世界上最精密的儀器，世界上已有1.2億美金一臺(tái)的光刻機(jī)。高端光刻機(jī)堪稱現(xiàn)代光學(xué)工業(yè)之花，其制造難度之大，全世界只有少數(shù)幾家公司能夠制造。國(guó)外品牌主要以荷蘭ASML(鏡頭來自德國(guó))，日本Nikon(intel曾經(jīng)購(gòu)買過Nikon的高端光刻機(jī))和日本Canon三大品牌為主。

2023年光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化發(fā)展現(xiàn)狀

ASML證實(shí)公司可在2023年底前向中國(guó)大陸客戶出口先進(jìn)浸沒式DUV，包括TWINSCANNXT:2000i及更先進(jìn)的型號(hào)，EUV仍在禁運(yùn)清單內(nèi)。2024年起，上述先進(jìn)設(shè)備將較難獲得出口許可證。

自3月以來，ASML一直將“最先進(jìn)”理解為NXT:2000i及之后的浸沒式設(shè)備。據(jù)了解，2023年二季度，ASML共確收39臺(tái)浸沒式DUV(2022年二季度為21臺(tái)，2023年一季度為25臺(tái))，占設(shè)備總收入的49%;2023年二季度公司來自中國(guó)大陸的收入約13.5億歐元，同比增長(zhǎng)225%、環(huán)比增長(zhǎng)215%，占比飆升至24%。且公司積壓的380億歐元在手訂單中(截至2023年二季度末)，中國(guó)大陸的積壓量超過20%。從ASML的業(yè)績(jī)可見，中國(guó)大陸的諸多Fab正積極采購(gòu)以滿足后續(xù)擴(kuò)產(chǎn)需求。

據(jù)中航證券統(tǒng)計(jì)，未來3年，中國(guó)大陸晶圓產(chǎn)能有望以遠(yuǎn)超行業(yè)的速度增長(zhǎng)，2023~2025年同比增長(zhǎng)18.8%、19.6%、17.4%，自主產(chǎn)能逐步爬坡，到2025年8&12英寸的自主產(chǎn)能占比將提升至17%。

本次延長(zhǎng)先進(jìn)光刻機(jī)出貨，國(guó)內(nèi)成熟晶圓廠可以順利擴(kuò)產(chǎn)，且先進(jìn)制程突破可期;疊加近期華為Mate60的王者回歸，也提振了板塊的投資信心。明年后，無論是整機(jī)自研配套零部件，或是備件更換都會(huì)更多依賴國(guó)內(nèi)零部件供應(yīng)商。且光刻機(jī)零部件成本占比高、市場(chǎng)空間大，2022年ASML設(shè)備收入154億歐元，產(chǎn)品相關(guān)的供應(yīng)鏈支出86億歐元，超過5成。從長(zhǎng)期看，光刻機(jī)上游零部件依舊具備投資價(jià)值。

光刻機(jī)行業(yè)屬于明顯的寡頭壟斷格局，前三供應(yīng)商(荷蘭阿斯麥、日本佳能、日本尼康)占據(jù)絕大多數(shù)市場(chǎng)份額。從營(yíng)收來看，尼康占比84%，佳能占比9%，阿斯麥占比7%。2022年光刻機(jī)市占率按出貨量來看 ，阿斯麥占比63%排名第一，佳能占比32%排名第二，尼康占比5%排名第三。

全球光刻機(jī)市場(chǎng)壟斷格局

目前，全球光刻機(jī)市場(chǎng)被荷蘭的ASML、日本的佳能和Nikon三家公司壟斷，其中更是擁有極紫外光(EUV)光刻機(jī)的專利技術(shù)，可以制造出7納米以下的先進(jìn)芯片。

位于我國(guó)上海的SMEE已研制出具有自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的投影式中端光刻機(jī)，形成產(chǎn)品系列初步實(shí)現(xiàn)海內(nèi)外銷售。正在進(jìn)行其他各系列產(chǎn)品的研發(fā)制作工作。生產(chǎn)線和研發(fā)用的低端光刻機(jī)為接近、接觸式光刻機(jī)，分辨率通常在數(shù)微米以上。主要有德國(guó)SUSS、美國(guó)MYCRO NXQ4006、以及中國(guó)品牌。

根據(jù)中研普華研究院《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：

半導(dǎo)體是光刻機(jī)的主要應(yīng)用領(lǐng)域之一，中國(guó)政府出臺(tái)一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，刺激了國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)的發(fā)展，進(jìn)而推動(dòng)了光刻機(jī)市場(chǎng)規(guī)模的上漲。2022年中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模約為147.82億元。從區(qū)域分布來看，中國(guó)光刻機(jī)行業(yè)華東地區(qū)占比最重，占比為51.8%。

根據(jù)數(shù)據(jù)顯示，2022年中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái)，需求量約為652臺(tái)。光刻機(jī)的研發(fā)、制造和維護(hù)成本較高，特別是高性能光刻機(jī)。然而，在市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)加劇的情況下，制造商為了降低成本和提高競(jìng)爭(zhēng)力，不得不考慮降低價(jià)格。這導(dǎo)致了市場(chǎng)均價(jià)的下降。2022年中國(guó)光刻機(jī)均價(jià)約為2267.2萬元/臺(tái)。

荷蘭光刻機(jī)巨頭對(duì)華出口飆升

全球最大的光刻機(jī)供應(yīng)商荷蘭巨頭阿斯麥(ASML)二季度對(duì)華出貨量猛增。7月19日，阿斯麥發(fā)布2023年第二季度財(cái)報(bào)顯示，第二季度，阿斯麥對(duì)中國(guó)大陸的出貨量在總量中占比達(dá)到24%，是所有地區(qū)中環(huán)比增幅最大的。

如果計(jì)算成具體數(shù)量，阿斯麥一季度對(duì)華(指大陸)出貨光刻系統(tǒng)8臺(tái)，二季度出貨量飆升至27臺(tái)。

中國(guó)市場(chǎng)帶來的貢獻(xiàn)在阿斯麥全球總收入中占比已超16%。當(dāng)下，中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)對(duì)于中高端光刻機(jī)的需求逐步增加，尤其是在全球高端芯片供應(yīng)緊張的背景下，中國(guó)企業(yè)加快了自主研發(fā)的步伐。

光刻機(jī)是半導(dǎo)體上游晶圓制造工藝的最核心設(shè)備，決定著芯片的性能和工藝水平。目前，在上游晶圓制造、設(shè)計(jì)等領(lǐng)域，國(guó)內(nèi)主流企業(yè)均積極擴(kuò)充產(chǎn)能，逐步推動(dòng)本土設(shè)備、材料等環(huán)節(jié)突破，帶動(dòng)半導(dǎo)體設(shè)備國(guó)產(chǎn)化率持續(xù)上升。

例如，華虹半導(dǎo)體于近期啟動(dòng)了科創(chuàng)板IPO，擬募資180億元用于晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)升級(jí)等。公司表示，其增長(zhǎng)性主要來自市場(chǎng)需求增長(zhǎng)和產(chǎn)能擴(kuò)張。近三年來公司旗下4座晶圓廠產(chǎn)能利用率持續(xù)飽滿。

國(guó)際半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)協(xié)會(huì)(SEMI)預(yù)計(jì)，到2026年，全球?qū)⒂?6座新的晶圓廠。從分布來看，其中26座將在中國(guó)。天眼查數(shù)據(jù)顯示，截至目前，我國(guó)經(jīng)營(yíng)范圍涵蓋“晶圓代工”的企業(yè)達(dá)3840余家，2023年新增注冊(cè)企業(yè)20余家。

同時(shí)，在新興半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈領(lǐng)域，新材料需求旺盛，三安光電、東尼電子等公司紛紛加大碳化硅襯底片布局力度，進(jìn)一步提振半導(dǎo)體設(shè)備商市場(chǎng)。

在產(chǎn)業(yè)鏈積極擴(kuò)產(chǎn)、新動(dòng)能發(fā)展壯大背景下，半導(dǎo)體相關(guān)制造環(huán)節(jié)加快發(fā)展。國(guó)家統(tǒng)計(jì)局新聞發(fā)言人付凌暉近日表示，上半年，半導(dǎo)體器件專用設(shè)備制造業(yè)、電子元器件及機(jī)電組建設(shè)備制造增加值同比分別增長(zhǎng)30.9%和46.5%。

雖然我國(guó)在光刻機(jī)領(lǐng)域起步較晚，且在一定程度上受制于國(guó)外技術(shù)封鎖和出口限制，但近年來國(guó)內(nèi)企業(yè)加速推進(jìn)光刻機(jī)關(guān)鍵技術(shù)的研發(fā)攻關(guān)。從90納米制程到28納米制程，甚至是7納米制程，中國(guó)的光刻技術(shù)飛速發(fā)展。

政策方面來看，我國(guó)對(duì)于半導(dǎo)體設(shè)備自主化的支持力度有望持續(xù)提升，從需求端來看，國(guó)內(nèi)晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)帶來的需求有望支持國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體設(shè)備企業(yè)持續(xù)快速成長(zhǎng)，國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體設(shè)備大有可為。

《2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告》由中研普華研究院撰寫，本報(bào)告對(duì)該行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、行業(yè)發(fā)展變化等進(jìn)行了分析，重點(diǎn)分析了行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對(duì)行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢(shì)預(yù)測(cè)等等。報(bào)告還綜合了行業(yè)的整體發(fā)展動(dòng)態(tài)，對(duì)行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。

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  2023-2028年光刻機(jī)市場(chǎng)發(fā)展現(xiàn)狀調(diào)查及供需格局分析預(yù)測(cè)報(bào)告

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