一、光刻設(shè)備行業(yè)簡(jiǎn)介

光刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備，其技術(shù)門(mén)檻和資金門(mén)檻都非常高，被譽(yù)為集成電路產(chǎn)業(yè)皇冠上的明珠。光刻設(shè)備的主要功能是將設(shè)計(jì)好的集成電路圖形通過(guò)光線的曝光印制到硅襯底的光感材料上，實(shí)現(xiàn)圖形的轉(zhuǎn)移。這一過(guò)程在芯片生產(chǎn)中需要重復(fù)多次，決定了半導(dǎo)體線路納米級(jí)的加工精度，對(duì)功率以及光源的要求十分復(fù)雜，對(duì)光刻機(jī)的技術(shù)要求十分苛刻，對(duì)誤差和穩(wěn)定性的要求極高。因此，光刻機(jī)的分辨率、精度成為其性能的評(píng)價(jià)指數(shù)，直接影響到芯片的工藝精度以及芯片的功耗、性能水平。

二、光刻設(shè)備行業(yè)產(chǎn)業(yè)鏈分析

光刻設(shè)備的產(chǎn)業(yè)鏈包括上游的零件、組件和設(shè)備等，以及下游的應(yīng)用如芯片制造、功率器件制造、芯片封裝等。光刻機(jī)涉及的內(nèi)部零件種類(lèi)眾多，且越高端的光刻機(jī)組成越復(fù)雜，其核心組件包括光源系統(tǒng)、雙工作臺(tái)、物鏡系統(tǒng)、對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)、曝光系統(tǒng)、浸沒(méi)系統(tǒng)、光柵系統(tǒng)等。因此，光刻機(jī)企業(yè)往往具備高外采率、與供應(yīng)商共同研發(fā)的特點(diǎn)。

三、中國(guó)光刻設(shè)備行業(yè)發(fā)展現(xiàn)狀

光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化率僅2.5%，上海微電子為國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)絕對(duì)龍頭。截至2022年，光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化率僅2.5%，國(guó)內(nèi)企業(yè)中，上海微電子是目前中國(guó)第一家也是唯一家光刻機(jī)巨頭，出貨量已占國(guó)內(nèi)市場(chǎng)份額超過(guò)80%，產(chǎn)品主要涉及ArF、KrF和i-line領(lǐng)域，其已具備90nm及以下的芯片制造能力。此外，還有北京華卓精科、北京科益虹源等國(guó)內(nèi)光刻機(jī)企業(yè)。

目前，國(guó)內(nèi)需求大于國(guó)產(chǎn)供給，2022年產(chǎn)量為95臺(tái)。近些年中國(guó)光刻機(jī)國(guó)產(chǎn)化進(jìn)程加快，中國(guó)的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)取得一定發(fā)展，但與國(guó)際領(lǐng)先水平相比，仍存在一些技術(shù)限制，尤其是高端光刻機(jī)技術(shù)受制于國(guó)外供應(yīng)商。導(dǎo)致中國(guó)光刻機(jī)制造商在面對(duì)技術(shù)挑戰(zhàn)和供應(yīng)鏈問(wèn)題時(shí)，產(chǎn)能和產(chǎn)量受限制。2022年中國(guó)光刻機(jī)產(chǎn)量約為95臺(tái)，而需求量約為652臺(tái)。近年來(lái)，中國(guó)政府出臺(tái)一系列政策支持半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，包括資金支持、稅收優(yōu)惠等，促進(jìn)國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體制造業(yè)發(fā)展。國(guó)內(nèi)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈攜手共進(jìn)，有望實(shí)現(xiàn)技術(shù)突圍。整機(jī)方面，上海微電子推出SSX600系列光刻機(jī)，可用于8寸線或12寸線大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。其余核心子系統(tǒng)組件的突出廠商在其細(xì)分領(lǐng)域均取得一定的技術(shù)突破。

圖表：2021-2023年中國(guó)光刻設(shè)備行業(yè)市場(chǎng)規(guī)模

四、中國(guó)光刻設(shè)備重點(diǎn)廠商分析

1、上海微電子

國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭，四類(lèi)產(chǎn)品線齊頭并進(jìn)。公司是國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)巨頭，致力于半導(dǎo)體裝備、泛半導(dǎo)體裝備、高端智能裝備的研發(fā)制造、銷(xiāo)售及技術(shù)服務(wù)。產(chǎn)品包括光刻設(shè)備、集成電路制程設(shè)備、平板顯示制程設(shè)備、光學(xué)量/檢測(cè)設(shè)備四類(lèi)。主要產(chǎn)品為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)高端投影光刻機(jī)，應(yīng)用于集成電路前道、先進(jìn)封裝、FPD面板、MEMS、LED、PowerDevices等制造領(lǐng)域。

SSX600系列光刻機(jī)可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求。SSX600系列光刻機(jī)是目前公司產(chǎn)業(yè)線中較具代表性的先進(jìn)產(chǎn)品型號(hào)，采用四倍縮小倍率的投影物鏡、工藝自適應(yīng)調(diào)焦調(diào)平技術(shù)，以及高速高精的自減振六自由度工件臺(tái)掩模臺(tái)技術(shù)，可滿足IC前道制造90nm、110nm、280nm關(guān)鍵層和非關(guān)鍵層的光刻工藝需求，可用于8寸線或12寸線大規(guī)模工業(yè)生產(chǎn)。

2、炬光科技

深耕激光元器件，多種產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)行業(yè)領(lǐng)先。公司主營(yíng)業(yè)務(wù)為光子產(chǎn)業(yè)鏈上游高功率半導(dǎo)體激光元器件和原材料（“產(chǎn)生光子”）、激光光學(xué)元器件（“調(diào)控光子”）的研發(fā)生產(chǎn)和銷(xiāo)售。目前正拓展光子產(chǎn)業(yè)鏈中游的光子應(yīng)用模塊、模組、子系統(tǒng)業(yè)務(wù)（“提供光子應(yīng)用解決方案”），重點(diǎn)布局汽車(chē)應(yīng)用、泛半導(dǎo)體制程、醫(yī)療健康三大應(yīng)用方向。公司多種產(chǎn)品技術(shù)指標(biāo)已達(dá)行業(yè)先進(jìn)，應(yīng)用于先進(jìn)制造、醫(yī)療健康、科學(xué)研究、汽車(chē)應(yīng)用、消費(fèi)電子領(lǐng)域。

公司堅(jiān)持技術(shù)導(dǎo)向，立足激光元器件、汽車(chē)應(yīng)用、泛半導(dǎo)體領(lǐng)域。激光元器件領(lǐng)域，公司的光場(chǎng)勻化技術(shù)，能實(shí)現(xiàn)對(duì)激光光束高度勻化，應(yīng)用于全球先進(jìn)半導(dǎo)體制程設(shè)備。汽車(chē)應(yīng)用領(lǐng)域，產(chǎn)品覆蓋點(diǎn)、線、面不同類(lèi)型的激光雷達(dá)發(fā)射光源模組及光學(xué)元器件、組件，應(yīng)用于機(jī)械旋轉(zhuǎn)式、混合固態(tài)、全固態(tài)等多種激光雷達(dá)技術(shù)路線。泛半導(dǎo)體領(lǐng)域，公司的線光斑及光學(xué)整形技術(shù)和相關(guān)產(chǎn)品獲客戶認(rèn)可，將在大幅面、大批量生產(chǎn)中凸顯高加工效率、生產(chǎn)良率。

《2024-2029年光刻機(jī)行業(yè)市場(chǎng)深度分析及發(fā)展規(guī)劃咨詢綜合研究報(bào)告》由中研普華產(chǎn)業(yè)研究院撰寫(xiě)，本報(bào)告對(duì)該行業(yè)的供需狀況、發(fā)展現(xiàn)狀、行業(yè)發(fā)展變化等進(jìn)行了分析，重點(diǎn)分析了行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、如何面對(duì)行業(yè)的發(fā)展挑戰(zhàn)、行業(yè)的發(fā)展建議、行業(yè)競(jìng)爭(zhēng)力，以及行業(yè)的投資分析和趨勢(shì)預(yù)測(cè)等等。報(bào)告還綜合了行業(yè)的整體發(fā)展動(dòng)態(tài)，對(duì)行業(yè)在產(chǎn)品方面提供了參考建議和具體解決辦法。