掩膜版行業(yè)發(fā)展如何?掩膜版,又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。
掩膜版行業(yè)發(fā)展如何?掩膜版,又稱光罩、光掩膜、光刻掩膜版、掩模版等,是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計(jì)和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。光掩膜基版是制作微細(xì)光掩膜圖形的理想感光性空白板,通過光刻制版工藝可以獲得所需光掩膜版。簡單地說,光掩膜基版在被刻蝕上掩膜圖形之后就成為光掩膜版。
掩膜版上游主要包括圖形設(shè)計(jì)、光掩膜設(shè)備及材料行業(yè),主要供應(yīng)廠商包括日本東曹、日本信越化學(xué)、日本尼康和菲利華等;中游為掩膜版制造行業(yè),主要企業(yè)有日本HOYA,日本DNP,韓國LG-IT、日本SKE和清溢光電等;下游主要包括IC制造、IC封裝、平面顯示和印制線路板等行業(yè),廣泛應(yīng)用于消費(fèi)電子、家電、汽車等電子產(chǎn)品領(lǐng)域,主要客戶為半導(dǎo)體廠商英特爾、三星、臺積電等以及顯示屏廠商京東方、華星光電等。
掩膜上承載著設(shè)計(jì)圖形,光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻,掩膜不直接與晶圓表面接觸。掩膜版產(chǎn)業(yè)的上游光刻機(jī)、掩膜基版等重要原料及設(shè)備等。光刻機(jī)作為最重要的生產(chǎn)設(shè)備,由于國外企業(yè)具有國際專利,處于壟斷地位。其中光刻機(jī)產(chǎn)量最大的企業(yè)ASML,2021年出貨EUV光刻機(jī)42臺,銷售額達(dá)到了63億歐元。
在平板顯示掩膜版領(lǐng)域,2016年至2019年全球平板顯示掩膜版的市場規(guī)模671億日元增至1010億日元,年均復(fù)合增長率達(dá)14.58%。受新冠疫情影響,2020年下滑至903億日元,同比減少10.57%。自2018年起中國大陸超越韓國成為全球第一大平板顯示掩膜版市場,2020年中國大陸的平板顯示掩膜版市場規(guī)模占比約為51%,預(yù)計(jì)未來占比將持續(xù)提升。
數(shù)據(jù)顯示,2016年全球G10及以上世代掩膜版的銷售額為51.75億日元,占全球掩膜版銷售額的比例為8%;2019年G10及以上世代掩膜版的銷售收入為157.51億日元,占全球掩膜版銷售額的比例為16%。2016年至2019年,全球G10及以上世代掩膜版的銷售額年均復(fù)合增長率達(dá)44.92%。受全球新冠疫情的影響,2020年全球G10及以上世代掩膜版的銷售額有所下降。
我國掩膜版制造主要集中在少數(shù)企業(yè)和和部分科研院所。面板領(lǐng)域,國內(nèi)能夠配套TFT用光掩膜版的企業(yè)只有路維光電和清溢光電,主要針對G8.5以下光掩膜版;在半導(dǎo)體領(lǐng)域,少數(shù)企業(yè)如無錫華潤、無錫中微等只能制造0.13μm以上stepper mask。對于HTM、GTM、PSM等光掩膜版全部依賴進(jìn)口。
根據(jù)中研普華產(chǎn)業(yè)研究院發(fā)布的《2021-2025年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報(bào)告》顯示:
2021年中國掩膜版技術(shù)專利申請數(shù)量為690項(xiàng)。國產(chǎn)掩膜版目前已突破多項(xiàng)關(guān)鍵核心技術(shù),包括掩膜版制造和光阻涂布等部分技術(shù),一舉打破了國外廠商在上述產(chǎn)品和技術(shù)領(lǐng)域的長期壟斷。
根據(jù)中國海關(guān)數(shù)據(jù)顯示,2019年1-12月中國制作和修復(fù)掩膜版(mask)或投影掩膜版(reticle)的裝置進(jìn)口數(shù)量為77臺,進(jìn)口金額為19292.71萬美元;2019年1-12月制作和修復(fù)掩膜版(mask)或投影掩膜版(reticle)的裝置出口數(shù)量為985臺,出口金額為21.96萬美元。2015-2019年中國制作和修復(fù)掩膜版(mask)或投影掩膜版(reticle)的裝置進(jìn)口數(shù)量與進(jìn)口金額均在2018年達(dá)到最高值,此后快速下滑;2015-2019年中國制作和修復(fù)掩膜版(mask)或投影掩膜版(reticle)的裝置出口數(shù)量在2017年達(dá)到最高值,出口金額逐年下跌。
清溢光電于2019年11月20日在上交所掛牌上市;主要從事掩膜版的研發(fā)、設(shè)計(jì)、生產(chǎn)和銷售業(yè)務(wù),是國內(nèi)成立最早、規(guī)模最大的掩膜版生產(chǎn)企業(yè)之一。數(shù)據(jù)顯示,2020年清溢光電總資產(chǎn)為142506.63萬元,相比2019年增長了9683.66萬元,同比增長7.29%;凈資產(chǎn)為117823.77萬元,相比2019年增長了5494.63萬元,同比增長4.89%。2020年清溢光電營業(yè)收入為48719.26萬元,相比2019年增長了754.17萬元,同比增長1.57%;營業(yè)成本為40859.55萬元,相比2019年增長了544.06萬元,同比增長1.35%。2020年清溢光電歸屬母公司凈利潤為7629.03萬元,相比2019年增長了600.62萬元,同比增長8.55%。每股收益為0.29元。
按產(chǎn)品分類來看,2020年清溢光電主營業(yè)務(wù)總收入為4.88億元,主營業(yè)務(wù)總成本為3.38億元,其中:石英掩膜版實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入為3.87億元,營業(yè)成本為2.77億元;蘇打掩膜版實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入0.80億元,營業(yè)成本為0.53億元;其他產(chǎn)品實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入為0.04億元,營業(yè)成本為0.03億元;其他(補(bǔ)充)實(shí)現(xiàn)營業(yè)收入為0.16億元,營業(yè)成本為0.05億元。
2020年8月,國務(wù)院發(fā)布《新時(shí)期促進(jìn)集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)高質(zhì)量發(fā)展的若干政策》,集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)是信息產(chǎn)業(yè)的核心,是引領(lǐng)新一輪科技革命和產(chǎn)業(yè)變革的關(guān)鍵力量。為進(jìn)一步優(yōu)化集成電路產(chǎn)業(yè)和軟件產(chǎn)業(yè)發(fā)展環(huán)境,深化產(chǎn)業(yè)國際合作,提升產(chǎn)業(yè)創(chuàng)新能力和發(fā)展質(zhì)量,制定出臺財(cái)稅、投融資、研究開發(fā)、進(jìn)出口、人才、知識產(chǎn)權(quán)、市場應(yīng)用、國際合作等八個(gè)方面政策措施。
2020年全球石英掩膜基版規(guī)模達(dá)到了97億元,中國石英掩膜基版市場規(guī)模也達(dá)到了17億元。且預(yù)計(jì)2025年,全球石英掩膜基版市場規(guī)模有望突破120億元,中國市場規(guī)模也能達(dá)到27億元。
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2023-2028年中國半導(dǎo)體儲存器行業(yè)發(fā)展分析與投資前景預(yù)測報(bào)告
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