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          掩膜版行業(yè)發(fā)展預(yù)測:預(yù)計2025年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模將超60%

          如何應(yīng)對新形勢下中國掩膜版行業(yè)的變化與挑戰(zhàn)?

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          半導(dǎo)體掩膜版在IC領(lǐng)域需求占比最高,達(dá)60%。隨著新興應(yīng)用領(lǐng)域的不斷增長,如5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)的普及,掩膜版產(chǎn)品的應(yīng)用場景也將不斷擴(kuò)大。

          掩膜版市場近年來持續(xù)增長,是全球半導(dǎo)體和平板顯示等產(chǎn)業(yè)的重要組成部分。根據(jù)SEMI等機(jī)構(gòu)的測算,2022年全球掩膜版市場規(guī)模回升至52億美元,初步測算2023年整體市場規(guī)模約為54億美元。

          在具體應(yīng)用領(lǐng)域,半導(dǎo)體掩膜版市場規(guī)模也穩(wěn)步增長。據(jù)觀研天下數(shù)據(jù)中心整理的數(shù)據(jù),2023年全球半導(dǎo)體掩模版市場規(guī)模為95.28億美元,其中中國市場規(guī)模約為17.78億美元,占全球市場的18.66%。

          根據(jù)中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》顯示:

          掩膜版行業(yè)發(fā)展預(yù)測

          掩膜版是下游行業(yè)產(chǎn)品制造過程中的圖形“底片”轉(zhuǎn)移用的高精密工具,是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。

          掩膜上承載著設(shè)計圖形,光源投過掩膜并將圖形投影在光刻膠智商。因此掩膜性能直接決定了光刻工藝的質(zhì)量。目前制程制程用較為常用的工藝為投影式光刻,掩膜不直接與晶圓表面接觸。

          掩膜版主要應(yīng)用于平板顯示、半導(dǎo)體、觸控和電路板等制造過程,是承載圖形設(shè)計和工藝技術(shù)等知識產(chǎn)權(quán)信息的載體。其中,半導(dǎo)體掩膜版在IC領(lǐng)域需求占比最高,達(dá)60%。隨著新興應(yīng)用領(lǐng)域的不斷增長,如5G、物聯(lián)網(wǎng)、人工智能等技術(shù)的普及,掩膜版產(chǎn)品的應(yīng)用場景也將不斷擴(kuò)大。

          中國作為全球主要的半導(dǎo)體和平板顯示生產(chǎn)基地,掩膜版市場需求旺盛。近年來,中國掩膜版市場規(guī)??焖僭鲩L,從2019年的87億美元增長至2022年的129.7億美元,年復(fù)合增長率為14.24%。預(yù)計2023年市場規(guī)模將達(dá)到148.2億美元。

          在平板顯示掩膜版領(lǐng)域,中國市場規(guī)模已超過韓國成為全球第一。根據(jù)數(shù)據(jù),2022年中國平板顯示掩膜版市場規(guī)模全球占比達(dá)到58%,預(yù)計2025年將超過60%。

          高端半導(dǎo)體掩模版技術(shù)突破

          掩膜版制造技術(shù)不斷進(jìn)步,主要體現(xiàn)在高精度、高密度、高良率等方面。高精度制造可以提高掩膜版的尺寸精度,減少誤差,從而提高生產(chǎn)效率。高密度制造則可以提高掩膜版的抗劃痕、抗腐蝕等性能,延長其使用壽命。此外,隨著納米技術(shù)、光刻技術(shù)等關(guān)鍵技術(shù)的不斷進(jìn)步,掩膜版的制造精度和效率將得到進(jìn)一步提升。

          近年來,中國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)憑借巨大的市場需求、豐富的人口紅利、穩(wěn)定的經(jīng)濟(jì)增長及有利的產(chǎn)業(yè)政策環(huán)境等眾多優(yōu)勢條件,實現(xiàn)了快速發(fā)展。從產(chǎn)業(yè)鏈角度看,上游的半導(dǎo)體設(shè)備和材料具有較高的產(chǎn)業(yè)壁壘,多領(lǐng)域落后較大,國產(chǎn)替代空間廣闊,持續(xù)受到高度重視和國家產(chǎn)業(yè)政策的重點(diǎn)支持。

          由于半導(dǎo)體掩模版對于技術(shù)研發(fā)和生產(chǎn)工藝控制水平的要求較高,國內(nèi)起步較晚,長期以來國內(nèi)半導(dǎo)體掩模版市場份額主要由國際巨頭所占據(jù)。龍圖光罩作為國內(nèi)領(lǐng)先的半導(dǎo)體掩模版企業(yè),以當(dāng)前特色工藝半導(dǎo)體市場為切入點(diǎn),緊扣國內(nèi)半導(dǎo)體廠商生產(chǎn)需求,不斷提升掩模版工藝技術(shù)水平和客制化服務(wù)能力,逐步成為國內(nèi)多個大型特色工藝晶圓廠商的合格供應(yīng)商,在部分工藝節(jié)點(diǎn)上占據(jù)了境外半導(dǎo)體掩模版廠商的市場份額。目前龍圖光罩已完成申購,即將成功登陸上交所科創(chuàng)板。

          從外部看,特色工藝半導(dǎo)體技術(shù)更新及終端市場需求增長,帶來半導(dǎo)體掩模版持續(xù)大量需求,同時,隨著美國貿(mào)易限制,為了產(chǎn)業(yè)鏈安全,國內(nèi)晶圓制造廠商均紛紛尋求國產(chǎn)半導(dǎo)體掩模版廠商進(jìn)行配套以擺脫對境外供應(yīng)商的依賴。

          掩膜版未來發(fā)展趨勢

          全球掩膜版市場競爭格局高度集中,主要被日本、美國等國家的企業(yè)所控制。在半導(dǎo)體掩膜版領(lǐng)域,美國Photronics、日本Toppan和日本DNP等公司占據(jù)主要市場份額。在平板顯示掩膜版領(lǐng)域,SKE、HOYA、LG-IT等公司也占據(jù)重要地位。

          中國掩膜版市場雖然起步較晚,但近年來發(fā)展迅速,涌現(xiàn)出一批優(yōu)秀的本土企業(yè),如清溢光電、路維光電等。這些企業(yè)在技術(shù)研發(fā)、市場拓展等方面取得了顯著成績,逐步打破了國外企業(yè)的壟斷地位。

          隨著全球電子產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,尤其是半導(dǎo)體、顯示面板等關(guān)鍵領(lǐng)域的持續(xù)創(chuàng)新,掩膜版作為電子制造的重要工具,其需求將會繼續(xù)增加。新技術(shù)的不斷涌現(xiàn),對掩膜版精度和質(zhì)量的要求也越來越高。這將推動掩膜版制造企業(yè)不斷加大研發(fā)投入,提升技術(shù)水平,以滿足市場需求。

          掩膜版產(chǎn)業(yè)的發(fā)展與其下游行業(yè)的發(fā)展密切相關(guān)。未來,隨著產(chǎn)業(yè)鏈上下游企業(yè)的協(xié)同發(fā)展,掩膜版產(chǎn)業(yè)將迎來更加廣闊的發(fā)展前景。

          綜上,掩膜版市場具有廣闊的發(fā)展前景和巨大的市場潛力。隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和應(yīng)用領(lǐng)域的不斷拓展,掩膜版市場將持續(xù)保持增長態(tài)勢。

          在激烈的市場競爭中,企業(yè)及投資者能否做出適時有效的市場決策是制勝的關(guān)鍵。中研網(wǎng)撰寫的掩膜版行業(yè)報告對中國掩膜版行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競爭格局及市場供需形勢進(jìn)行了具體分析,并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。同時揭示了市場潛在需求與潛在機(jī)會,為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場情報信息及科學(xué)的決策依據(jù),同時對政府部門也具有極大的參考價值。

          想了解關(guān)于更多掩膜版行業(yè)專業(yè)分析,可點(diǎn)擊查看中研普華研究院撰寫的《2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告》。同時本報告還包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價值洞察,可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢、風(fēng)險和機(jī)遇。

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          2023-2028年中國掩膜版行業(yè)發(fā)展趨勢及投資預(yù)測報告

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