光刻膠行業(yè)發(fā)展前景投資分析 光刻膠行業(yè)景氣回暖

• 吳亞楠 2023年9月19日 來(lái)源：互聯(lián)網(wǎng) 346 15
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隨著制程的進(jìn)步，存儲(chǔ)芯片及邏輯芯片的層數(shù)均不斷增加，隨之而來(lái)的是每片芯片需要的光刻次數(shù)不斷增加，進(jìn)而導(dǎo)致了對(duì)光刻膠的需求飛速增加。

隨著集成度的提高，光刻膠的分辨率的要求越來(lái)越高，所用的光源波長(zhǎng)越來(lái)越短。因?yàn)楣饪棠z成像時(shí)可分辨線寬與曝光波長(zhǎng)成正比，與曝光機(jī)透鏡開(kāi)口數(shù)成反比，所以縮短曝光波長(zhǎng)是提高分辨率的主要途徑。光刻工藝經(jīng)歷了從g線、i線光刻的近紫外(NUV)，進(jìn)入到深紫外(DUV)248 nm光刻，以及193 nm光刻的發(fā)展歷程。

在光刻工藝過(guò)程中，用作抗腐蝕涂層材料。半導(dǎo)體材料在表面加工時(shí)，若采用適當(dāng)?shù)挠羞x擇性的光刻膠，可在表面上得到所需的圖像。光刻膠按其形成的圖像分類有正性、負(fù)性兩大類。在光刻膠工藝過(guò)程中，涂層曝光、顯影后，曝光部分被溶解，未曝光部分留下來(lái)，該涂層材料為正性光刻膠。如果曝光部分被保留下來(lái)，而未曝光被溶解，該涂層材料為負(fù)性光刻膠。

光刻膠行業(yè)景氣回暖

當(dāng)前國(guó)內(nèi)高端芯片實(shí)現(xiàn)率先突破，光刻作為半導(dǎo)體加工中最重要的工藝之一，國(guó)產(chǎn)設(shè)備和材料滲透率較低，目前國(guó)內(nèi)正加大對(duì)光刻膠行業(yè)的攻關(guān)力度。

待國(guó)產(chǎn)光刻膠設(shè)備逐漸成熟，未來(lái)國(guó)內(nèi)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模增速有望快于全球，行業(yè)盈利急速提升。而且隨著芯片行業(yè)擺脫困境進(jìn)入景氣周期，光刻膠需求有望觸底反彈。根據(jù)相關(guān)機(jī)構(gòu)預(yù)測(cè)全球光刻膠市場(chǎng)將在2024年實(shí)現(xiàn)景氣回暖，國(guó)產(chǎn)廠商或?qū)⒊浞质芤?。由此可?jiàn)光刻膠行業(yè)在景氣周期與自主可控共振中迎來(lái)了發(fā)展新階段。

根據(jù)中研普華研究院撰寫(xiě)的《2023-2028年中國(guó)光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告》顯示：

光刻膠行業(yè)發(fā)展前景投資分析

隨著集成度的提高，光刻膠的分辨率的要求越來(lái)越高，所用的光源波長(zhǎng)越來(lái)越短。因?yàn)楣饪棠z成像時(shí)可分辨線寬與曝光波長(zhǎng)成正比，與曝光機(jī)透鏡開(kāi)口數(shù)成反比，所以縮短曝光波長(zhǎng)是提高分辨率的主要途徑。光刻工藝經(jīng)歷了從g線、i線光刻的近紫外(NUV)，進(jìn)入到深紫外(DUV)248 nm光刻，以及193 nm光刻的發(fā)展歷程。值得指出的是：現(xiàn)代曝光技術(shù)不僅要求高的分辨率，而且要有工藝寬容度和經(jīng)濟(jì)性，顯然光源的波長(zhǎng)越短，光刻膠的分辨率越高，感光樹(shù)脂合成的難度也越大。

在平板顯示器制造中，平板顯示器電路的制作、等離子顯示器障壁的制作、液晶顯示器彩色濾光片的制作均需采用光刻技術(shù)，使用不同類型的光刻膠。按用途可分為T(mén)FT用光刻膠、觸摸屏用光刻膠和濾光片用光刻膠。

電子信息產(chǎn)業(yè)更新?lián)Q代速度加快，疊加半導(dǎo)體、顯示面板產(chǎn)業(yè)東移，國(guó)內(nèi)光刻膠需求快速提升，我國(guó)光刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2015年的100億元增至2020年的176億元，年均復(fù)合增速達(dá)12%。

從全球來(lái)看，刻膠市場(chǎng)規(guī)模從2010年的56億美元增至2020年的87億美元，年均復(fù)合增速達(dá)5%。預(yù)計(jì)2022-2025年將達(dá)98、103、109和114億美元，穩(wěn)步提升。

與此同時(shí)，隨著制程的進(jìn)步，存儲(chǔ)芯片及邏輯芯片的層數(shù)均不斷增加，隨之而來(lái)的是每片芯片需要的光刻次數(shù)不斷增加，進(jìn)而導(dǎo)致了對(duì)光刻膠的需求飛速增加。

10億元光刻膠項(xiàng)目落地四川。在近日，在成都舉行的2023世界顯示產(chǎn)業(yè)大會(huì)上，某科技公司簽訂項(xiàng)目合作協(xié)議，擬在自貢沿灘區(qū)投資的年產(chǎn)10萬(wàn)噸高端光刻膠及超凈半導(dǎo)體功能化學(xué)品產(chǎn)業(yè)化項(xiàng)目。據(jù)悉，該項(xiàng)目擬投資10億元，占地約140畝，分別建設(shè)光刻膠、電子級(jí)雙氧水、電子級(jí)硝酸、電子級(jí)氫氟酸、刻蝕液、顯影液、剝離液、清洗液、高純電子級(jí)硫酸以及溶劑回收等生產(chǎn)線。

項(xiàng)目建成達(dá)產(chǎn)后，預(yù)計(jì)年銷售收入17.2億元、年稅收3億元，提供就業(yè)崗位超100個(gè)。該項(xiàng)目的引入將有助于四川省晶硅光伏、新型顯示、半導(dǎo)體制造等產(chǎn)業(yè)的高質(zhì)量發(fā)展，項(xiàng)目建成投產(chǎn)后能夠有效提升成渝地區(qū)在國(guó)內(nèi)光刻膠行業(yè)版圖中的地位，同時(shí)吸引相關(guān)配套企業(yè)向本地集聚，帶動(dòng)傳統(tǒng)基礎(chǔ)化工、電子信息等產(chǎn)業(yè)上下游產(chǎn)業(yè)鏈高質(zhì)量發(fā)展，對(duì)發(fā)展西南地區(qū)的半導(dǎo)體，平板顯示以及太陽(yáng)能新能源產(chǎn)業(yè)具有重大戰(zhàn)略意義。

光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢(shì)

光刻膠屬于技術(shù)和資本密集型行業(yè)，全球供應(yīng)市場(chǎng)高度集中，日本JSR等五家龍頭企業(yè)占據(jù)全球光刻膠市場(chǎng)87%的份額，同時(shí)海外龍頭也已實(shí)現(xiàn)EUV等高端制程量產(chǎn)。目前，我國(guó)光刻膠生產(chǎn)主要集中在PCB光刻膠等中低端產(chǎn)品，其中PCB光刻膠占比達(dá)94%，而半導(dǎo)體用g/i線膠自給率約10%，KrF膠自給率不足5%，ArF膠基本依靠進(jìn)口。

在政策推動(dòng)及半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈配套需求提升背景下，國(guó)內(nèi)優(yōu)秀龍頭公司正積極突破，彤程新材EUV膠已通過(guò)02專項(xiàng)驗(yàn)收;上海新陽(yáng)、徐州博康A(chǔ)rF膠正處客戶測(cè)試階段，南大光電ArF膠已獲部分客戶認(rèn)證;晶瑞電材等i/g線膠已實(shí)現(xiàn)量產(chǎn)。

受益于國(guó)家紅利政策的扶持，中國(guó)本土光刻膠制造商積極提升光刻膠產(chǎn)品技術(shù)水平和研發(fā)能力，推進(jìn)光刻膠國(guó)產(chǎn)化的進(jìn)程。 近期有機(jī)構(gòu)報(bào)告指出，預(yù)計(jì)全球光刻膠市場(chǎng)將在2024年實(shí)現(xiàn)反彈，增長(zhǎng)7%，總額達(dá)到25.7億美元。

未來(lái)，中國(guó)有望突破高端光刻膠產(chǎn)品的技術(shù)壁壘，帶動(dòng)中國(guó)光刻膠產(chǎn)量進(jìn)一步提升。在國(guó)家一系列紅利政策帶動(dòng)下，國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體、平板顯示及PCB行業(yè)發(fā)展勢(shì)頭良好，我國(guó)光刻膠產(chǎn)量呈現(xiàn)穩(wěn)中有升態(tài)勢(shì)。

在激烈的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)中，企業(yè)及投資者能否做出適時(shí)有效的市場(chǎng)決策是制勝的關(guān)鍵。光刻膠行業(yè)報(bào)告對(duì)中國(guó)光刻膠行業(yè)的發(fā)展現(xiàn)狀、競(jìng)爭(zhēng)格局及市場(chǎng)供需形勢(shì)進(jìn)行了具體分析，并從行業(yè)的政策環(huán)境、經(jīng)濟(jì)環(huán)境、社會(huì)環(huán)境及技術(shù)環(huán)境等方面分析行業(yè)面臨的機(jī)遇及挑戰(zhàn)。還重點(diǎn)分析了重點(diǎn)企業(yè)的經(jīng)營(yíng)現(xiàn)狀及發(fā)展格局，并對(duì)未來(lái)幾年行業(yè)的發(fā)展趨向進(jìn)行了專業(yè)的預(yù)判。

本報(bào)告同時(shí)揭示了光刻膠市場(chǎng)潛在需求與潛在機(jī)會(huì)，為戰(zhàn)略投資者選擇恰當(dāng)?shù)耐顿Y時(shí)機(jī)和公司領(lǐng)導(dǎo)層做戰(zhàn)略規(guī)劃提供準(zhǔn)確的市場(chǎng)情報(bào)信息及科學(xué)的決策依據(jù)，同時(shí)對(duì)政府部門(mén)也具有極大的參考價(jià)值。同時(shí)包含大量的數(shù)據(jù)、深入分析、專業(yè)方法和價(jià)值洞察，可以幫助您更好地了解行業(yè)的趨勢(shì)、風(fēng)險(xiǎn)和機(jī)遇。

想了解關(guān)于更多光刻膠行業(yè)專業(yè)分析，可點(diǎn)擊查看中研普華研究院撰寫(xiě)的《2023-2028年中國(guó)光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告》。

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  2023-2028年中國(guó)光刻膠行業(yè)深度分析與發(fā)展前景預(yù)測(cè)報(bào)告

  光刻膠是國(guó)際上技術(shù)門(mén)檻最高的微電子化學(xué)品之一，在大規(guī)模集成電路的制造過(guò)程中，光刻和刻蝕技術(shù)是精細(xì)線路圖形加工中最重要的工藝，占芯片制造時(shí)間的40%~50%，光刻膠是光刻工藝得以實(shí)現(xiàn)選擇...

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